浅谈PS版显影.pdf

PS PS 浅谈PPSS版显影 PS版显影 显影是制版的关键，影响最终制版的质量和稳定性，很多的制版 问题常出现在此。显影原理 用显影液将已经曝光并发生分解的感光层（阳图PS版）部分溶 解，使印版形成图像和非图像两个部分的过程，称之为显影。 显影原理：PS版曝光后感光树脂分解，放出氮气，引起环的开 裂，分子结构发生重排，生成茚酮化合物，遇水生成茚酸化合物，此 化合物遇碱则生成钠盐而溶于水，裸露出铝版基，形成了不含图像的 空白区域，这些区域自然形成亲水层，而未感光的部位保留了原有感 光树脂的亲油特性，自然形成印版的图像部位，印刷时即可接受油墨。 显影液 版显影液是一种碱性水溶液，它由显影剂、保护剂、润湿剂和水 等材料组成。 ①显影剂 是用来溶解已受光部分感光层物质，主要为碱性物质，常用药品 有氢氧化钠、氢氧化钾、硅酸钠、磷酸钠等。 a．氢氧化钠 属于强碱，具有显影能力强、显影速度快、价格便宜等特点，但 它同时对未感光的涂层也有一定的侵蚀作用，使版面留膜率降低，还 可使显影后的空白铝版基氧化膜受到侵害。因此，使用氢氧化钠作为 显影剂时，应注意下述原则： 常用于氧化膜较厚和进行过封孔处理的PS版。 常用于感光层抗强碱类型的PS版。 氢氧化钠配成的显影液在空气中易吸收空气中的二氧化碳生成 碳酸钠，因而稳定性差。 目前单独使用氢氧化钠的情况已经不多，常与其他材料配合使 用，其用量根据不同要求会有不同，一般来说重量百分比为O．1％ 一O．5％ 氢氧化钾与氢氧化钠性能相近，其侵蚀性比氢氧化钠略弱，所以， 用氢氧化钾作为显影剂时使用量可以比氢氧化钠多O．4倍。 b．硅酸钠 属于强碱弱酸盐，具有显影速度快、性能较稳定、使用寿命长等 特点。硅酸钠易水解生成氢氧根离子，它可补充显影过程中氢氧根离 子的损失，使显影液的pH值得到稳定。 水解后生成的酸式硅酸钠可以进行脱水反应，其生成物吸附到印 版氧化膜的孔隙中，对氧化膜有保护作用，增加印版的亲水性能，此 现象可称为印版的后封孔。因此，未封孔的PS版常用硅酸钠作为显 影液。 ②保护剂 主要作用是稳定显影液，降低显影液在显影过程中对印版的腐 蚀，保护图文部分的感光层不受显影液的侵蚀，因此，保护剂也称抑 制剂。常用的抑制剂有磷酸钠或氯化钾等。 磷酸钠(Na3 P03)的缓冲原理：它在水中水解时，有调节显影液 pH值的作用。 水解反应生成的磷酸还有对版面去脏的作用，有利于显影后版面 残留碱液的去除。 氯化钠也可以作为保护剂使用，氯化钠在显影过程中形成的氯离 子，有抑制感光层吸水溶涨的作用和助洗的作用。 ③润湿剂 ’ 主要是为降低显影液的表面张力，使显影液有较好的润湿性和分 散均匀性，提高显影的均匀度。主要材料是表面活性剂，如十二烷基 苯磺酸钠等。 ④溶剂 主要是水，但对水的要求比较高。普通自来水由于存在大量的钙、 镁盐类易产生沉淀或絮状物，因此，用去离子水或软化水比较好。 显影液配方举例 氢氧化钠与硅酸钠混合配方： 氢氧化钠 硅酸钠 表面活性剂 加水至 使用显影液的注意事项： ①在实际使用中，显影液经常是配成浓度较大的溶液，称为浓缩 液，在显影时与一定比例的水相混合。 ②由于制造PS版的厂家制造技术的不同，在显影的耐碱性方面 有很大区别，一般厂家都推荐自己的显影液与其版材相配套，应尽量 使用厂家推荐的显影液。 ③从环保角度出发，显影液的浓度有向弱碱方向发展的趋势，这 样既降低了腐蚀性能，又减轻了废液的排放。 显影方式 手擦式：目前很少再用，要注意操作时用力的均匀性和安全性。 由于手工操作，导致显影易不均匀，有些版不适合采用这种显影方式 槽显：显影温度同室温，环境对显影效果影响较大，特别是冬厦 两季。要注意水槽体积对水流和水压的影响，合理配比显影液。对于 PS版试版来说，这是一种比较好的显影方式，显影和水洗都比较充 分，显影比较单纯，不会受到其它因素的影响。 机显：主流显影方式，自动控制显影过程，显影机是关键。本章 机显的大部分内容也适合于CTP显影机 显影环境 照明：不同类型的版材有不同