液晶聚合物的合成與性能研究具有低熔融和廣闊的液晶象溫度.ppt

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液晶聚合物的合成與性能研究具有低熔融和廣闊的液晶象溫度

NiO/AgNbO3結構和光催化活性探討 教授:陳建宏 學生:郭韋聖 出處Journal of Alloys and Compounds 496 (2010) 633–637 作者: Huoming Shua,b, Jimin Xieb, Hui Xua, Huaming Li b,?, Zheng Gua, Guangsong Suna, Yuanguo Xub 摘要 1.NiO/AgNbO3複合材料製備濕含浸法 2.觸媒分析為物理和化學兩種,利用 XRD,SEM,XPS和DRS物理性質分析。化學性質分析,利用氧化亞甲基藍染料在紫外光下照射進行光降解分析。 實驗 2.1製備NiO/AgNbO3光觸媒 製備 AgNbO3粉末利用固態混合為反應。用AgNbO3 和Nb2O5混合,複合材煅燒880?C/5h 加入適量的NiNO3 溶液到AgNbO3合成,攪拌後再去烘乾。乾燥後的粉末在煅燒300?C的4小時然後 NiO/AgNbO3光觸媒獲得。 結果與討論 Fig. 1. X-ray diffraction pattern of NiO/AgNbO3: (A) with different contents of Ni loading and (B) with different calcination temperatures 3.1 X-Ray分析 Fig. 2. XPS spectra of NiO/AgNbO3. 3.2 XPS分析 Fig. 3. XPS spectra of NiO/AgNbO3: (A) Ag 3d, (B) Nb 3d, (C) O 1s, and (D) Ni 2p. 3.3 SEM分析 Fig. 4. SEM image of NiO/AgNbO3 (A) and AgNbO3 (B) samples Fig. 5. EDS image of NiO/AgNbO3 catalyst. 3.4 DRS分析 Fig. 6. UV–vis diffuse reflectance spectra of NiO/AgNbO3: (A) different contents of Ni loading, (B) different calcination temperature and (C) estimated band gap of NiO/AgNbO3 catalysts by Kubelka–Munk function. Fig. 7. Effects of the different Ni content on MB degradation efficiency. 3.4 光催化降解分析 Fig. 9. Absorption spectral changes of MB under UV light irradiation: (A) AgNbO3 as photocatalyst and (B) NiO/AgNbO3 as photocatalyst. 結論 1. 3 wt%的NiO/AgNbO3焙燒在300?C紫外線照射活性最高 2.氧化鎳可以提升AgNbO3光催化活性

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