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HDI培训 线路板HDI的相关参数与工程制作要求 我司HDI设计要求 1+N+1客户设计要求: 孔径大小:激光孔0.1-0.15MM,我司通常用0.1MM制作 埋孔大于或等于0.2MM,采用机械钻孔 线宽\间距:外层、内层3\3MIL以上即可,小于此值需评审 面厚:内层成品H OZ 外层成品30 UM左右, 客户要求超出此值需评 审 孔铜:埋孔孔铜13-18UM,激光孔与通孔孔铜18-20UM,客户要求超出此值需评审 孔到线距离:激光孔到内层线距离大于或等于7MIL,小于此值需评审, 我司尝试生产过孔到线6MIL样板,但合格率不高 板尺寸:交货单元不大于8*10英寸,因我司RCC尺寸为10*12英寸,如超出需评审 其它要求与普通板一致 工程制作 流程 芯板开料 → 化学清洗(刷板)→ 内层图形 → 蚀刻 → 黑化 → 芯板层压 → 钻埋孔→ 沉铜(板电)注1 → 树脂堵孔注2→ 打磨 → 沉铜(板电)注3 → 次外层图形 → 图电 → 蚀刻(退锡) → 电测 → 黑化 → 层压(RCC开料)注4→ 打靶孔 → 铣大边框 → 激光孔图形 → 蚀刻 → 激光打孔 → 钻通孔 → 沉铜(板电)注5→ 外层图形 → 图电注6 → 蚀刻 → 阻焊 → 表面处理 →恒流源电测试 → 铣外形 → 电测→ 成检 → 入库 备注 注1:要保证孔内铜厚≥13μM,如果表面铜厚不能加大,可采用镀孔工艺,板电1.5ASD,60Min,走多层板流程,板电时该板四周边应挂上其他板电板或宽度在15CM以上的分流条,以保证板面铜厚尽量均匀 。 注2:钻盲孔→沉铜(板电) → 树脂堵孔 → 打磨 → 沉铜(板电)这一流程是针对有埋孔的HDI板设计的,堵孔不能用普通的油墨塞孔油,而应该用专用的树脂塞孔油。 注3:第二次沉铜/板电的目的是将盲孔两端用铜封闭起来,方便激光打孔,板电1.5ASD,25Min,走多层板流程,但除胶渣要除2遍,目的是保证埋孔的孔口位置多余的树脂被清除干净 备注 注4:RCC压好后,一般要求将表面铜厚减薄到9微米再做板。 注5:第三次沉铜板电考虑到要为微盲孔镀孔,为保证良好的渗镀能力,板电1.2ASD,25Min,走多层板程序,要求沉铜沉2遍,即沉铜→板电→再沉铜→再板电 注6 :图电1.2ASD×70Min,在保证激光孔孔形的基础上,激光孔底部铜厚要求大于12μm。通孔孔内铜厚则大于18μM 工程制作注意事项 钻孔处理方面: 激光孔用0.1MM孔设计,一方面减少激光孔打在BGA焊点上对焊盘的影响,一方面保证激光孔焊盘的大小。 埋孔最好用0.2MM-0.4MM制作,因埋孔使用盘中孔方法,需塞孔。 激光孔的对位孔加4个,加板长边,定位孔顺序逆时针加。底层激光孔输出时镜像后输出。 线路处理方面 外层,当线宽间距3\3MIL时,可以选择性补偿0.5MIL, 确保2.5MIL间距即可。间距够时,按普通板件方法。 次外层,补偿可按外层方法制作。次外层的激光孔焊盘,在确保最小间距情况下,能加多大加多大,防止对位偏差造成激光打偏,形成短路。 内层按普通板件方法即可。 拼版板边方面: GTL-1,GBL-1菲林的制作方法:先按开料尺寸整板铺铜,再分别用顶底层的激光孔整体加大1MIL叠铜面,再在板边加菲林对位图形(此图形位置与外层定位图形一致,但需叠出,因此层为负片),再在板长边加4个对位光标点,光标点大小为1MM,光标点周围挖开铜3MM,光标记下方层流胶点去除,避免对位时抓错中心。光标点与对位图形应加CY以内 对位图形的加法 埋孔的靶标加埋孔通过层。通孔的靶孔加次外层,且靶标下内层的流程点需去除(如1-2,2-5,5-6板,通孔靶加L2,L5层,L3,L4通孔靶下流程点去除,埋孔靶加L3,L4层)。 恒流源测试 测试条件:20V/2A 3-5S,任何一个测试Coupont有烧焦、冒烟现象,均判定该Panel报废 测试目的:测量孔铜的均匀性与耐电压 恒流源模块 工程恒流源的相关内容 工程加电镀边时,通常有效区至电镀边采用5MM间距(普通板为3MM),因需加恒流源测试模块,恒流源测试模块有两种,一个PNL至少增加6个以上,两种各三个以上 恒流源测试流程安排在外形前 流程后需备注的参数 埋孔沉铜时,沉铜加厚后备注孔铜大于13UM,因沉铜后会塞孔 通孔沉铜时,备注除胶渣两次,送品质检验 流程在做完次外层线路后安排中测,测孔,确保好板才压RCC 终测后注明打完切片

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