第九章-20081.ppt

　 1．起甲剥落、酥碱壁画的化学保护： 这种病害的清除方法及材料的选用，在国际上约进行了一个世纪的探讨。 最早使用天然高分子粘合剂来保护，随着化学工业的发展出现了性能优良的合成材料后对文物壁画的保护又转向合成材料。 日本最早于1920年对法隆寺金堂壁画进行保护，当时有人提出用石膏填充龟裂壁画、再用树脂硬化的方法，后来他们用硬树脂等天然材料加固脱落壁画，但引起了壁画变黄，产生光泽现象。 30年代末国外开始用合成高分子材料于壁画保护，取得了良好效果。 日本于30年代末用有机玻璃溶解的乳液加固壁画获得成功，又用尿素树脂对法隆寺烧伤壁画加固；用丙烯酸树脂等对摩崖佛保护。 在50年代前，苏联及捷克斯洛伐克也采用合成高分子材料加固修复壁画文物。 1957年捷克斯洛伐克格拉尔在参观我国莫高窟时，还用合成高分子材料进行了修复试验，但由于浓度过大，使画面变暗。 经过20年后观察，周围壁画已脱落粉化，而处理过的仍可见到，证明合成材料用于壁画保护确有效。 我国从50年代起采用天然高分子材料如胶矾水、动物胶、植物胶和合成高分子材料如环氧树脂、聚乙烯醇、聚醋酸乙烯树脂、聚丙烯树脂等对壁画及其它相关文物进行修理与保护。 如在敦煌莫高窟采用我国胡继高经多次试验的合成高分子材料配方： (1)1~3%的聚乙烯醇， (2)1~1.5%聚醋酸乙烯乳液 或(1)(2)浓度的不同混合液来修复起甲、酥碱壁画，此后这一方法成为我国壁画保护的主要技术，在1987年荣获文化部科研成果一等奖。 辽宁省博物馆对某些壁画揭取中用含50%的三甲树脂在丙酮稀释至9~10%后的贴布，再用环氧树脂和其它合成树脂固定； 陕西省博物馆多年一直采用桃胶揭取壁画。再用丙烯酸树脂和聚醋酸乙烯树脂液固定。在壁画文物的起甲、酥碱治理及修复中，采用天然高分子材料好还是采用合成高分子材料优，已有大量事实证明合成高分子性能优于天然高分子性能。 2·烟熏层的化学清除： 烟熏层一般采用化学方法清洗。 国际上研究较迟，国内50年代曾对敦煌壁画进行清洗，后来新疆博物馆对库木吐拉和克孜尔千佛洞用NaOH和氨水分别试验清洗，取得了一定的效果。 对壁画烟熏层的系统研究与清除试验主要是在莫高窟进行，从1976年始段修业等选用不同的无机与有机溶剂、氧化剂试验，最后筛选了Na2CO3为清洗剂。 清洗时先用一定浓度的Na2CO3洗涤，等烟层溶解后再用H2O2氧化碳层，用柠檬酸中和碱液，最后用水洗。 这种清洗剂在清洗莫高窟烟层时取得了良好的效果。经过烟层化学成分的研究，更加证实了这一方法的可靠性。 高温度、高湿度、紫外光、微生物是褪色、变色、霉变的主要原因。因此防止壁画发生褪色、变色霉变主要在于改造壁画的存在环境。 。 (1)、湿度、温度的改变：彻底改变这些因素常受财力的限制。但可改变洞窟中的通风条件，保持空气的流畅，使热、水气散发。但通风要保证使洞窟不发生酥碱，过分的通风会使洞窟空气干燥，易使支撑体内水分蒸发、导致酥碱。在洞窟中放置易吸潮的化学干燥剂如CaCl2、碱石灰及新型的超级吸水剂来改变环境的湿度。 用碱石灰还可吸收洞窟内由旅游者产生的CO2，由大气污染带来的H2S、SO2等有害气体，同时碱石灰还可再生使用。目前麦积山文物已使用石灰干燥剂来吸潮，有利于洞窟的干燥。 (2)紫外光的清除：紫外光是引起颜料光化学反应的条件，是导致褪、变色的一重要因素。室内、洞窟内影响壁画的紫外光的消除，可采取避光措施。如有关壁画文物点禁止旅游者照像、拍电视等。有条件的地方还装有无紫外线灯如敦煌莫高窟。室外壁画目前还没有解决的办法。 (3)防霉变：霉变产生的外因在于高温、高湿度。 在这些条件下微生物生长迅速，活动频繁，因此改变温度与湿度是防霉变的必要措施。 对霉菌可使用杀菌剂杀灭，特别在难以实现良好通风的地方，如墓室壁画更适用于这一方法。 如日本在高松家古墓的防霉处理中，用带有温度调节罩的加热器使聚甲醛气化，把气化物导入密闭的墓室中。 在一般室内及洞窟内可使用杀菌性能好、不产生刺激性气味、与壁画不起作用的杀菌剂如五氯苯酚、联苯酚等。日本在法隆寺金堂的除菌中还使用三丁基氧化锡和乙醇的溶液。 三、对壁画文物化学保护的评价及展望 1．目前对壁画起甲、酥碱的治理及保护主要是提高画面层与地仗层、地仗层与支撑体的粘结力。 使用的材料为天然高分子与合成高分子。 这些材料在壁画保护中已显示出了一定的抗氧化性和抗酸性，但由于合成材料抗腐蚀、无霉变，比天然材料更好，如聚乙烯醇、聚醋酸乙烯树脂等。在干燥环境中用这些树脂的水溶液修复时还具有一定的保湿性，适宜于新疆、青海、甘肃西部、宁夏等地区的壁画的修复。对高湿度地区则用聚乙烯醇缩醛的乙醇溶液修复。 合成高分子材料虽具有优良的性能，但其自身的历史与壁画的历史相比非常短，能否经长期的