真空镀技术及发展趋势.pdfVIP

目录 真空技术及其发展趋势 一、真空技术概述 二、相关概念和理论 PCEG表面处理技术发展处 三、真空系统的组成 黄义钧 四、真空技术的应用 TeL:72303 E-mail:yi-jun huang 五、真空镀膜技术的发展趋势 2004.5 一、真空技术概述 真空技术的应用领域 真空曾经是一门很神秘的学科，因为它一 直是发达国家在军事、原子能和空间技术等关 1.航空航天； 系国家科学技术竞争力的高技术领域激烈竞争 2.电子技术； 的秘密武器。但随着技术的迅速发展和应用的 3.汽车工业； 日益广泛，其神秘面纱才逐渐被揭开。 4.家电； 真空薄膜对我们十分有用，现举三个例 5.水利工程； 子； 6.海洋； a.高耐磨、低摩擦系数、高化学稳定性的薄 7.城市建设。 膜； 由于真空制程无污染，易操作和控制， b.玻璃上镀二氧化钒薄膜则具有智能化功能； 可靠性和稳定性好，自动化程度高等许多优 c.信息存贮薄膜。 点，我相信，真空技术的使用将会越来越普 遍和广泛。 现在连金属的冶炼、衣服的储存、食品的 包装都已用到真空技术。 二、相关概念和理论 高于临界温度的气态物质为气体；低于临界 1．相关概念 温度的气态物质为蒸气。 f(u) 1）真空的定义：真空并不是真正的没有空 4）气体分子的速度分 T 1 气，它是指低于一个大气压的气体空间。 布：温度越高，高速度分 T 2）真空度的单位：分子数/cm³, 即分子密 子数越多。 分 2 19 3 布 度的单位(标准状态3x10 个/cm )，但分子 密度这个物理量不好度量，一般用压强作真空 5）平均自由程:：每 函 数 度的单位。 个分子在连续两次碰撞