电子纯水制备用水厂RO膜分离技术的应用.pdf

莱特莱德水厂水处理设备有限公司 电子纯水制备用水厂RO 膜分离技术的应用 一、纯水在电子元器件生产中的作用 纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出， 纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的 重要因素之一，水质要求也越来越高。在电子元器件生产中，超纯水 主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件生 产中纯水的用途及对水质的要求也不同。 在电解电容器生产中，铝箔及工作件的清洗需用纯水，如水中含 有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂敷碳酸 盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大 性能及寿命，因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中， 其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属 的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水， 如纯水中含铜在8ppb 以上，就会引起发光变色;含铁在50ppb 以上就 会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等，就 会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光 点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12 个工序中，玻壳清洗、 沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5 个工序需使用纯水，每生产一个显 www. 莱特莱德水厂水处理设备有限公司 像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液， 如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电 路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。显像管、液晶显示器 生产对纯水水质的要求见表1。 表1 显像管、液晶显示器用纯水水质 项 目 细 电阻率 微粒 TOC Na+ K+ Cu Fe Zn 单 菌 位 个 MΩ.cm(25℃) 个/ml mg/L μg/L μg/L μg/L μg/L μg/L /ml 黑 白 ≤10(Φ 显 ≥5 ≤5 ＞ ≤0.5 ≤10 ≤10 ≤8 ≤10 ≤10 像 0.5μm) 管 彩 色 ≤10(Φ ≥5 ≤1 ≤0.5 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 显 ＞1μm) 像 www. 莱特莱德水厂水处理设备有限公司 管 液 晶 ≤10(Φ 显 ≥5 ≤1 ≤1 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ＞1μm) 示 器 在晶体管、集成电路生产中，纯水设备厂家主要用于清洗硅片， 另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配 制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用超纯水清洗 硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水 中的碱金属(K、Na 等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu 等) 会使PN 结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga 等)会使N 型半导体特性 恶化，Ⅴ族元素(P、As、Sb 等)会使P 型半导体特性恶化，水中细菌 高温碳化后的磷(约占灰分的20~50%)会使P 型硅片上的局部区域变 为N 型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片 表面，就会引起电路短路或特性变差。集成电路生产对纯水水质的要 求见表2。 表2 集成电路(DRAM)对超纯水水质的要求 集成电路（DRAM）集成度16K 64K