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以离子交换树脂回收光电业制程
中興工程﹒第123期 . 2014年4月 。 PP. 的 101
自財團法人tf~ .x..程頗閉社
http ://www . sinotech . org.tw/journal/ SINOTECH ENG INEER ING CONSU LTAN TS.INC
以離子交換樹脂回收光電業製程
原廢水中特有物種之研究
紹 介 果 成 發 研 烏春梅* 吳碩傳** 許國恩*** 白山爭鈺**** 朱敬平*****
年 7 月 1 日生效)、鋼0.1 mg/L 、錄 0.1 mg/L 與
景
一 、背
鉤。.6 mg/L (以上三項即日生效) ,有待尋求更
有效的處理方式以符新法規 。
近年國內光電產業蓬勃發展,主要有薄膜電
晶體液晶面板顯示器 ( Thin-Film Transistor Liquid 本研究希望於原廢水產生端設置離子交換樹
Crystal Displayer, TFT-LCD) 、發光二極體 脂系統,針對目標物種進行吸附去除,希冀能達
(Light-Emitting Diode , LED) 與太陽能電池 到「高效捕捉」與 「 高純度再生」兩項目標,減
(Solar Cell) 等業別;不同製程產生廢水性質迴 少上述物種排放至廢水處理單元,造成後端處理
負荷 ,同時也能回收高純度化學藥品。
異 ,可概分成有機廢水、酸鹼無機廢水、氣系廢
水、蝕刻廢水等,其中有機廢水約古總廢水量
二 、研究方法
的強,因製程用藥多含有氮成分,使廢水含有
高濃度有機氮,碳氮比印刷 Ratio) 偏低,不易
本研究探討目標離子子d性物種包括下述七種:
以生物處理將水中總氮濃度降至可接受範闇 ;
1. 氫氧化四甲基錶( Tetramet由h可叭y抖1 Ammo∞nn叫1
另無機廢水與蝕刻廢水中 ,除包含製程所使用
Hydroxide , TMAH) , 顯影劑主要成分 ;推測
酸液(硝酸、硫酸、磷酸等) ,尚含從各種介
光電業與半導體業廢水中 30~50%的氯氮係
電層中酸蝕剝除之重金屬,或來自薄膜潑鍍
由 TMAH 所貢獻。
( Sp
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