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霍尔效应 霍尔元件与磁场的测定
霍 尔 效 应 实 验
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实验背景
置于磁场中的载流体,如果电流方向与磁场垂直,则在垂
直于电流和磁场的方向会产生一附加的横向电场,这就是
美国科学家霍尔于1879年发现的霍尔效应。这一效应广
泛地应用于科学实验和工程技术中,如:测量技术、电子
技术、自动化技术等 。 霍尔元件具有结构简单、形体小、
寿命长、频率响应宽等特点,从而引起了许多各国科技人
员对霍尔效应、霍尔元件以及应用霍尔效应的实用知识和
实用技术的关注。
实验目的
本实验通过研究霍尔电压与工作电流的关系,霍尔电压与
磁场的关系以及消除霍尔效应的副效应的方法,从实验中
认识霍尔效应。
实验原理
1、霍尔效应及其产生机理
有一块宽为 ,厚为 的长方形金属薄片或半导体薄片。现给
w h
轴正向通一稳恒电流 ,垂直方向加一磁场在不加磁场 ,若
x I B
S
在1、2两点加一电流计,则发现电流计发生偏转,说明1、2
两点之间存在电位差,此现象称为霍尔效应,则此两点间的
电位差称为霍尔电压U 。
H
由于薄片中的载流子(设为自由电子)以平均速度v沿x轴负
方向作定向运动,所受的洛伦兹力为 = ,而这个力使
F evB
B
电荷向1-3面和2-4面的两边堆积,并沿 轴方向上形成一个
y
的横向电场E ,即霍尔电场。此电场对载流子形成一个与洛
H
伦兹力相反的静电力F ,二者最终会达到平衡,有F =
H B
F ,即: evB = eE ………………(1)
H H
其中: — 载流子电量; — 载流子速度。
e v
又已知霍尔片宽为 ,两侧间的霍尔电压为 ,则:
w U
H
/ ………………(2)
E = U w
H H
又在 方向的截面积S wh ………………(3)
x =
设金属薄片或半导体薄片内的载流子浓度为 ,单位时间内
n
体积为 里的载流子全部通过横截面,则电流强度为:
vS
I = nevS = nevwh ………………(4)
S
I
S
v = ………………(5)
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