4.5金属的热电子发射和接触电势.PDF

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4.5 属的热电子发射和接触电势 一. 功函数 二. 热电子发射 三. 接触电势 参考:黄昆书6.2节p286-290 Kittel 8版 17.3.1;17.3.2 节 p336-337 在前面的讨论中,由于使用了周期性边界条件,我们所推 导的金属性质仅适合于无限大的金属,故没有关注金属表面势 场的影响,箱式模型假定电子气存在于不能穿透的壁的箱内, 即是说对电子而言,箱外的势能比箱内的势能无限地大,但实 验否定了这个假定,有限的能量足以使电子脱离金属,因此 为了从理论上讨论电子发射,修改箱式模型为一个具有一定 穿透性的箱壁是必要的。 一. 功函数: 对于一个金属的均 匀表面,其功函数(一 些文献中也称脱出功) EF V 真空能级 0 定义为真空能级(有的 文献称之为电子亲和势) 与费米能级之间的电子 势能之差。定义这个函 数的意义我们下面会陆 续解释。 真空能级是指电子处在离开金属表面足够远的某一点上的 静止能量。此时电子受到的静电力可以忽略(大约离开表面 10nm 以上即可)。也可理解为电子在 属内部的势能与电子 在真空中无穷远处势能之差,对于自由电子模型, 属内部势 能定义为常数,这个数值可以严格定义。 功函数的详细说明: 在金属内部,自由电子受到正离子的吸引,由于各金属离 子的吸引力相互抵消,电子所受的净合力为0 。但金属表面的 电子由于有一部分离子的吸引力不能被抵消而受到净吸引力, 阻止其逸出金属表面。如同在金属表面形成一个势垒一样。因 此金属中的电子可以看成是处于深度为V0 势阱中的电子系统。 实际上有可能被激发而逸出金属的电子只是在费米能附近, 因此,有 W V E 0 F 其中V 为真空能级,即电子跑到无穷远处所具有的势能, 0 V 也可看成是势阱的深度;功函数W~几个eV 。 0 这是部分金属的功函数数值,单位是电子伏(eV ) 该表摘自Kittel 书p337。请注意:不同表面的功函数数值不同。 不同文献中 出的数值也稍有差别。 金属中的电子克服束缚跳出金属,根据其获得能量的方式 可以区分为: 1. 高温导致的热电子发射; 2. 强电场导致的场致发射; 3. 光照导致的光致发射: 4. 电子撞击产生的次级电子发射; 5. 表面上的放热反应导致的外激发射,或更一般地说,表面 上的力学作用 (如摩擦或范性形变)或化学反应所导致的 电子发射。 前两种情形,可以完全在自由电子模型的范畴内得到 解释,其余的效应则相对复杂些,必须考虑电子和其它粒 子的相互作用才可解释。 二、热电子发射: 实验表明,热电子发射的电流密度为 2 W j AT exp Richardson -Dushman公式 k T B 其中A为常数,W为功函数(或脱出功),即电子逸出金 属所需克服的势垒。 根据实验数据作图可以得到一条直线,其斜率 出功函数: j 1 ln 2 : T T 对于该实验规律,金属自由电子论可以 出合理的解释。

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