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含氟水溶液中电化学刻蚀氟化WO3薄膜电极增强可见光光电.PDF
理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao)
December A cta Phys. Chim. Sin., 2009, 25(12) ：2427-2432 2427
[Article]
含氟水溶液中电化学刻蚀氟化WO 薄膜电极增强
3
可见光光电化学性能
文1 冷文华1, 牛振江2 想1
费 会1 张鉴清1 曹楚南1,3
1 2
( 浙江大学玉泉校区化学系, 杭州 310027; 浙江师范大学 理化学研究所, 浙江金华 321004;
3 中国科学院金属研究所, 金属腐蚀与防护国家重点实验室, 沈阳 110016)
摘要： 报道了在含氟的酸性水溶液中, 对电沉积制备的WO3 薄膜电极进行电化学刻蚀, 并采用光电化学、扫描
电子显微镜(SEM) 、X 射线衍射(XRD) 、光电子能谱(XPS) 、紫外可见漫反射光谱、光致发光(PL)等方法对电极进
行了表征. 结果表明, 刻蚀使电极比表面积增大, 质量减少, 重要的是可使电极表面状态发生变化. 在相同催化剂
质量和比表面积的条件下, 这种变化显著提高了WO3 薄膜电极在可见光和紫外可见光照下的光电转换性能.
机理研究表明, 电极光电化学性能提高可归因于刻蚀使电极表面发生氟化, 光生载流子表面复合中心数目减少,
平带电位负移. 刻蚀对电极的吸光性质和晶体结构等未检测出明显变化. 氟化电极在酸性中具有良好的光电化
学稳定性.
关键词： WO ; 电化学刻蚀; 氟化; 光电化学; 可见光
3
中图分类号： O646
Enhanced Photoelectrochemical Performance of WO Film Electrode
3
under Visible Light by Electrochemical Etching Fluorination in
Aqueous Solutions Containing Fluorine
LI Wen1 LENG Wen Hua1, NIU Zhen Jiang2 LI Xiang1 FEI Hui1
ZHANG Jian Qing1 CAO Chu Nan1,3
1 2
( Depa rtment of Chemistry, Yuquan Camp us, Zhej iang
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