电镀条件对非晶态Pd-Ni-P镀层组成和形貌的影响.pdf

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电镀条件对非晶态Pd-Ni-P镀层组成和形貌的影响

维普资讯 第4l卷 第4期 材 料 保 护 Vol_4l No.4 2008年 4月 M aterialsProtection Apr.2008 电镀条件对非晶态 Pd-Ni-P镀层组成和形貌的影响 楼 莹 ,岑树琼 ,周颖华 ,牛振江 ,李则林 (1.浙江师范大学物理化学研究所浙江省固体表面反应化学重点实验室,浙江 金华 321004; 2.金华教育学院生化系,浙江 金华 321000) [摘 要] 采用电沉积法制备了P(J—Ni—P合金 ,采用扫描 电子显微镜 (SEM)、能量色散谱 (EDX)、X射线衍 射(XRD)等方法对镀层的形貌、成分和结构进行了分析,研究了PdC1、NiSO ·6HO主盐浓度、电流密度等电镀 条件对其形貌、组成及性能的影响。结果表明,通过控制主盐浓度和电流密度,可以获得不同成分的P(J—Ni—P合 金镀层。P(J—Ni—P合金镀层的结构为非晶态结构或微晶结构,在300cIC下热处理 lh后,非晶态镀层有少量NiP 相析出,但仍基本保持非晶态。350cCI下热处理 1h后,镀层发生晶化,主要析 出NiP、NiPd2P相。在3%NaC1 溶液中,PJ(—Ni—P合金镀层的耐腐蚀性能优于Ni—P镀层 ,耐腐蚀性能随P(J含量增加而增强。 [关键词] Pd—Ni—P合金 ;电沉积 ;形貌;耐蚀性能;非晶态 [中图分类号]TQ153.1 [文献标识码]A [文章编号]1001—1560(2008)04—0010—04 O 前 言 LH3P03、20.0g/LH3BO3,pH值为4.0,镀液温度50 cIC。改变 PdC1、乙二胺、NiSO ·6HO浓度 (在所有试 非晶态合金 (金属玻璃)具有优异的力学性能,良 好的耐腐蚀性,成为材料科学中重要的研究对象 ’。 验 中,均根据 PdC1和NiSO 的浓度调节乙二胺 的浓度 , P(J—Ni.P合金在很宽的组成范围内容易形成非品态结 以保持镀液 中Pd/乙二胺和 Ni/乙二胺 的摩尔 比为 构 ,其优异 的物理化学性能在机械 、电催化等方面都有 1:2),电流密度 10~100mA/cm 。电沉积试验采用双 良好的应用前景 一。以物理方法制备Pd—Ni—P合金 电极体系,纯铜片为阴极,暴露面积 0.5cm ,其余部分 已经被广泛研究 ~91,Kawamura等 报道 了P(J4oNi40P2o 用 604硅橡胶绝缘密封 ,阳极为大面积 Pt片。工艺流 合金具有出众的超塑性 。wu等 ¨”。研究了真空电弧熔 程 :阴极除油一水洗一活化一 电沉积一水洗一烘干一 化技术制备的Pd。Ni。P。合金在多种腐蚀溶液中的耐 保存。 蚀性能。刘冰 “等人研究了在半导体硅上 电沉积 采用Tafel曲线分析合金镀层在3%NaC1水溶液中 Ni—Pd—P薄膜及其结构 ,探讨 了镀液 中H PO 浓度和 的耐蚀性能,采用三电极体系,P(J—Ni—P合金镀层为工作 pH值对镀层组成的影响。结 明,镀层 中的P含量 电极 ,H Hg2SO /K2SO (饱和)为参 比电极 (SMSE),Pt 与镀层的形貌和结构密切相关。但用电化学方法制备 电极为辅助电极 ,扫描速率0.5mV/s,试验温度 30cIC。 P(J—Ni—P合金的报道却很少… ,本工作 以恒 电流沉 所用溶液均为分析纯试剂,以三次水配制 (比电阻 积了P(J—Ni—P三元合金镀层,分析了镀液 中PdC1、 18.2mQ ·cm)。所有 电化学试验均在 CHI660B电化 NiSO浓度及电流密度等条件对 P(J—Ni—P合金镀层成 学工作站上进行

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