多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定！.PDF

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 (’ ! #( ! ， ， ， /U@ -(’ TU - ! :+EVW #( （ ） !6$#7O#(O(’ ! O’$761 )8P) QLR5S8) 5STS8) #( 8X?+ - QXWY - 5UA - 多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定! ） ） ） ） ） ） ） ! ! ! # # ! $ 王成伟 王 建 李 燕 刘维民 徐 洮 孙小伟 力虎林 !）（西北师范大学物理与电子工程学院，兰州 %$% ） # ）（中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室，兰州 %$ ） $ ）（兰州大学化学化工学院，兰州 %$ ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） #’ ’ % #’ ( !# 根据多孔阳极氧化铝（ ）薄膜的实验透射谱（ — ），采用极值包络线算法确定其光学常数，并由此 ))* # #( +, 较精确地计算出 薄膜样品在该波段的光学常数 结果表明，多孔氧化铝薄膜表现出直接带隙（能隙约 ） ))* - ’ - ( ./ 半导体的光学特性，且其光学常数与制样中的重要工艺参数阳极氧化电压有显著的相关性，即随阳极氧化电压的 增加， 薄膜的厚度、折射率和光学能隙变大，消光系数减小 同时，计算得到的薄膜厚度与实测值相吻合，则说 ))* - 明计算结果和实验值是自洽的- 关键词：薄膜光学，光学常数，多孔阳极氧化铝，阳极氧化电压 ： ， !## %01(2 %0#3 研究方面，人们采用))* 薄膜作为模板，设计制备 ［ — ］ !G 引 言 了多种不同的纳米阵列结构光学体系! !( - 然而， 关于))* 多孔模板本身光学性质的研究乃至确定 ［ ， ］ 近年来，兴起了一种新颖的构筑二维横向超晶 其光学常数的工作，文献报道不多!1 !% - ［］ 格纳米有序阵列结构的非光刻制备工艺!