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超高密度磁记录的课题与展望
信息记录材料 2004 年 第 5 卷 第 3 期 记录与介质
超高密度磁记录的课题与展望
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郭 伟 , 赵争强 , 王 飞 编译
( 1 中国乐凯胶片集团公司 , 保定 071054 ; 2 中国人民银行 保定中心支行 , 保定 071000)
摘 要 : 介绍了超高密度记录的研究开发状况 , 论述了垂直磁记录技术的课题以及采用 TMR 磁头的、记录
密度为 Subterabitin2 的记录读出特性。作为高密度记录所必需的头盘界面技术 , 提出了接触记录技术的课题 ,
还就 STM ( Scanning tunneling microscopy) 存储器论述了未来超高密度技术。
关键词 : 垂直磁记录 ; TMR 磁头 ; 耐磨性 ; 接触记录 ; STM 存储器
中图分类号: TQ581 文献标识码 : A 文章编号 : 1009 - 5624 (2004) 03 - 0049 - 0006
Prospects and Subjects for Hi gh Recording Density
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GUO Wei ,ZHAO Zhengqiang ,WAN G Fei
( 1 China L ucky Fil m Group Co. B aoding 071054 ;2 China People B ank B aoding Cent re B rank ,B aoding 071000)
Abstract : The N EC’s research and development for ultrahigh recording density is described. The subjects for per
pendicular magnetic recording have been discussed. Readwrite characteristics of Subterabitin2 highdensity recording
TMR ( Tunneling magnetic resistance) head are estimated. Subjects for contact recording techniques and STM ( Scanning
tunneling microscop y) memory are also described
Keywords : Perpendicular magnetic recording ; TMR head ; Pass wear resistance ;Contact recording ;STM memory
式的课题和 STM ( Scanning tunneling microscop y)
1 前 言 存储器的超高密度技术。
目前, 围绕超高密度技术的未来发展 , 国内外 2 垂直磁记录技术的开发
科研机构就高密度记录技术进行了研究开发。涉及
到磁记录中垂直磁记录技术的课题 , 研究了采用
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