气相法白炭黑表面羟基的漫反射红外研究.pdfVIP

喝11.材斗， 2016 , 30 (6): 476 -478 分析·测试 SIUCONE MATERIAL 气相法自炭黑表面瓷基的漫反射红外研究 吴丹，李建英，钟连友，余慧玲 (浙江新安化工集团有限公司，浙江建德3116∞) 摘要:采用漫反射红外光谱法 (DRI町、)研究了气相法白求黑表面残.l.的分布情况，并考察了热处理 对其结构的影响。 结果表明:气相法白炭黑表面美~.l.主要以孤立和邻位美~.l.为主，在i受反射红外光谱中的 J J 位直分别为 3743cm - 处和3684 cm - .l.经 8∞c热处理后谱峰 处，随着温度的升高谱峰强度增加，邻位发 消失。 关键词:气相法白炭黑，表面务.l.，没反射红外光谱 中图分类号: TQ 219 文献标识码: A doi: 10. 1194l/j. issn. 1 ∞9 -4369.2016.06.011 在 O/H/N 火焰中燃烧SiC1 而生成的气相 弗炉: A -10 ，上海圣科公司。 2 4 1. 2 实验方法 法白炭黑为白色无定型絮状半透明固体胶态粒 Si0 ( 1 ) 。 导致气相法自炭黑聚 的聚集体 将约500 mg 样品装人小资增塌置于马弗炉 子，是 2 集的主要因素是其粒子表面上的硅是基相互作 中，升温至指定温度并恒温热处理3 h。 热处理 用，这些大量的硅经基是在气相法自炭黑生产工 后的样品略冷却，移至干燥器中，并在样品冷却 艺中硅的卤化物经高温水解而生成( 2) 。 气相法 至室温后短时间内在 1 仪)() - 4 仪MD cm- l 进行漫 自炭黑被广泛用于吸附剂、催化载体以及功能填 反射红外扫描。 实验空白为 KBr (于 150t:烘 料[3 -4) 。 在这些应用中，气相法白炭黑表面经基 3 h) 。实验温度分别为 150t: 、 2∞℃、 4∞℃、 对于相应的表面吸附、催化以及与有机质的表面 ωOt:、 800t: 。 同时记录各热处理温度下气相法 配合等反应有重要影响。 因此，对气相法白炭黑 自炭黑的质量损失情况。 表面提基的分布情况进行研究非常必要。 2 结果与讨论 一般采用透射红外光谱法对物质结构及官能 团进行研究，陈和生等人采用透射红外光谱法对 2.1 漫反射红外光谱分析 SiO [ s -6) 。 漫反射红外光 表面的起基进行了研究 图 1 为自炭黑的漫反射红外光谱。 z 谱法适用于固态(包括粉末、纤维、泡沫塑料) 样品的测试，是由人射光在样品表面发生漫反 射，引起表面分子或基团的红外共振吸收，尤其 适合于表面官能团的测定。 袁鹏等人对表面 是基已有较深入的研究[8 剖，但采用漫反射红外 光谱法 (DRI阿)对自炭黑表面经基的研究尚未 见报道。 本实