销售人员镀膜培训.ppt

* * 销售精英镀膜培训 镀膜的分类 蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面的镀膜方法称为蒸发镀膜 溅射镀膜 用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上的镀膜方法称为溅射镀膜—（我公司使用的是磁控溅射镀膜） 离子束沉积和离子镀 蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀，离子镀膜是蒸发镀膜和溅射镀膜镀膜技术的结合 化学气相沉积 是反应物质在气态（等离子体）条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术 溶胶凝胶 金属有机或无机化合物经过溶液,溶胶,凝胶而固化,再经热处理而形成氧化物的方法. 电镀或电解 镀膜的基础知识 等离子体整体呈中性，不带电，是良好的导体。等离子体中含有带负电的电子、带正电的离子和中性的原子分子。宇宙中99%的物质都是以等离子体的状态存在的。日光灯、火焰、恒星都是等离子体 本底电离的电离很微弱，在没有外加电场的情况下，本底电离出来的离子和电子会重新被中和掉。电离和中和是同时存在的一个平衡过程 电离 中和(发光) 原子 离子(正电) 电子(负电) 日光灯管里的水银等离子体辉光是紫外线，荧光粉吸收紫外线后放出白光 氩气（Ar）等离子体的辉光是蓝色 电离： 物理上的电离是指不带电的粒子在高压电弧或者高能射线等的作用下，变成了带电的粒子的过程。 本底电离： 来自宇宙射线，放射性矿物或其它源的这种辐射或激发，能在大气压强下的空气中产生恒定且达到可测量程度的电离。 等离子体 等离子体是由部分电子被电离后产生的带正电的原子和原子被电离后产生的带负电的电子组成的离子化气体状物质，它是除去固、液、气外，物质存在的第四态。 辉光 等离子体中的电子和离子中和时会释放出能量，部分能量进以光能的形式释放出来的，因此等离子体会发光，称作辉光，这种现象叫作辉光放电。由于不同的物质的离子和电子中和时释放出来的能量不一样，所以不同物质的等离子体发出的辉光颜色也不一样。 镀膜的原理 溅射的原理 如下图所示．此低压放电管是霓虹广告灯和日光灯管的原型，它包括一个抽真空的玻璃管，在两端有接至高压直流电源的圆形电极．在等离子体中，电子向阳极迁移，而正离子移向阴极，它们都频繁地与中性气体的原子碰撞，电离出更多的电子和离子，以维持稳定的等离子体辉光放电。当电子和离子分别加速运动到阳极和阴极时就会对其产生溅射，由于电子的质量非常小，对阳极的溅射效果很小；离子的质量大，对阴极的溅射效果非常明显，因此被溅射的靶材都安装在阴极 生活中用到的日光灯管在两端装的是灯丝，时间用久了灯管的两端就会发黑，这是由金属灯丝被溅射到灯管壁上产生的。因为日光灯使用的是交流电，两端的阴极是互相交替变换的，所以两边的灯丝都会被溅射到，这样灯管的两端都会发黑 镀膜的原理 低压放电管中的区域 阴极位降区（dc）是辉光放电必不可少的区域，若两极的距离小于这段距离将不能起辉。利用此原理，可以对阴极不想溅射的区域加屏蔽罩进行间隙保护（直流磁控溅射：3~5mm，射频磁控溅射：2mm左右） 阴极位降区的长度（dc）不会随着阴极和阳极间距离的变化而变化 镀膜的原理 直流溅射镀膜的实例 在直流溅射，电子和离子在电场中仅仅只是单向地向阳极和阴极加速，运动路径短，在运动过程中和其他粒子（原子）碰撞的机率小，电离中性原子的机率也小，因此等离子体中起溅射作用的离子浓度并不大，溅射速率小，膜的生长速度慢。为了提高膜的生长速率，后来发明了直流磁控溅射镀膜 镀膜的原理 直流磁控溅射镀膜的原理 运动的电子在磁场中会受到垂直于磁场方向的力的作用，因此增加磁场可以改变电子的运动方向，使电子在加速到达阳极之前通过更长的路径，这样就可以电离出更多的离子，使离子浓度增加，从而轰击靶材的离子增加，使溅射速率提高，提高膜的生长速度 如左图所示，电子在磁场中延靶材跳跃前进，而不是直接加速运动到阳极 镀膜的原理 直流(磁控)溅射镀膜的问题 因为在直流（磁控）溅射中，靶材为阴极，直空室腔壁和基片为阳极，两者都是导体，之间存在着稳定的电场以维持稳定的等离子体辉光放电并对靶材（阴极）产生溅射。直流（磁控）溅射在实际生产中存在以下问题： 阳极消失：在溅射镀膜的过程中，膜不仅沉积在基片上，也沉积在腔壁上。若沉积的膜是介质膜（绝缘体），当腔壁上的积膜达到一定厚度之后，阴极和阳极之间就会被绝缘，这就会使得电场不稳定，从而导致溅射不稳定甚至辉光消失停止溅射。 电弧放电：在积沉介质膜时，靶的非溅射区或靠近靶材的暗区屏蔽上也会被镀上一层，当离子或电子轰击到这层膜上时因为被绝缘就会积累大量电荷，从而引起靶面或靶面和屏蔽之间的电弧放电，会烧坏靶材或屏蔽 靶中毒：在沉积介质膜时，若反应物的生成速度大于靶材的溅射速度，就会在靶材表面形成介质绝缘层，当离子