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电子工艺简介要点
数据分析 结深 硼扩后电性 裂片TRR良率 一·结深 ﹥1200﹤1.2﹤280 ﹥800﹤1.2﹤130 ﹥600﹤1.2﹤120 ﹥1200﹤1.7﹤70 ﹥550﹤1.25﹤48 ﹥350﹤1﹤48 二·硼扩后电性 裂片TRR良率 小结 数据对学习及分析的重要性 抓住细节 * N 50 耐压区 130 P 70 1263℃/17H 275-285 N 60 耐压区 80 P 85 1263℃/29H 250-260 N 60 耐压区 80 P 80 1263℃/27H 240-255 N 70 耐压区 110 P 65 1263℃/29H 270-280 N 85 耐压区 55 P 85 1263℃/29H 255-265 N 85 耐压区 40 P 95 1263℃/29H 240-260 85 40 95 1255℃/42H 220-223 1250℃/12H 240-260 ﹥350﹤1﹤48 85 55 85 1255℃/37H 225-228 1250℃/12H 255-265 ﹥550﹤1.25﹤48 70 110 65 1255℃/17H 240-245 1250℃/10H 270-280 ﹥1200﹤1.7﹤70 60 80 85 1263℃/27H 220-225 1200℃/200分 240-255 ﹥600﹤1.2﹤120 60 80 85 1263℃/29H 225-235 1200℃/200分 250-260- ﹥800﹤1.2﹤130 50 130 70 1263℃/17H 250-255 1200℃/200分 275-285 ﹥1200﹤1.2﹤280 N 耐压区 P 结深 硼扩 硼扩前厚度 磷扩 原片厚度 电性 0.866-0.871 400-600 1255℃/42H 220-223 1250℃/12H 240-260 ﹥350﹤1﹤48 0.875-0.879 600-800 1255℃/37H 225-228 1250℃/12H 255-265 ﹥550﹤1.25﹤48 0.890-0.899 1000-1200 1255℃/17H 240-245 1250℃/10H 270-280 ﹥1100﹤1.7﹤70 0.882-0.899 800-1000 1263℃/27H 220-225 1200℃/200分 240-255 ﹥600﹤1.2﹤120 0.885-0.899 900-1200 1263℃/29H 225-235 1200℃/200分 250-260- ﹥800﹤1.2﹤130 0.918-0.930 1400-1600 1263℃/17H 250-255 1200℃/200分 275-285 ﹥1200﹤1.2﹤280 TRR VF PIV 硼扩后电性 硼扩 硼扩前厚度 磷扩 原片厚度 电性 ％ 12％ 6％ 0％ 1％ 81％ 1.2％ 7％ 0.8％ 1.6％ 8.4％ 82％ 1.5％ 7.2％ 0.8％ 0％ 0.3％ 90％ ％ 6.7％ 2.6％ 0％ 2.3％ 88％ 3.2％ 7％ 2.5％ 1.6％ 0.7％ 85％ 0.8％ 6.6％ 0.7％ 0％ 0％ 92％ ％ 7.4％ 0.5％ 2.6％ 0.6％ 88％ 0.7％ 6.5％ 0.6％ 1.2％ 9％ 82％ 碎次 边角 亮边亮角 TRR﹤ TRR﹥ 良品 *
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