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去离子水设备在半导体行业用;一、去离子水设备的概述;二、去离子水设备的工艺流程; 先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质，然后高压通过反渗透膜，分离出溶剂与溶液。最后一般还要经过一步紫外杀菌以去除水中的微生物。假如此时电阻率还没有达到要求的话，可以再进行一次离子交换过程，最高电阻率可达到18兆。半导体工业中用的大多数是高纯度的去离子水。; 1、实验室、化验室用水，一般实验室的常规试验、配置常备溶液、清洗玻璃器皿等。
2、电子工业生产，如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶; 3、电力锅炉，锅炉所需软化水、除盐。
4、汽车、家用电器、建材表面涂装、电镀、镀膜玻璃清洗等。
5、石油化工行业，化工反应冷却水、化学药剂、生产配液用水等。
6、工业纺织印染、钢铁清洗用水等。
7、食品、饮料、酒类、化妆品生产用水。
8、海水、苦咸水等净化。; 1、系统纯水产量0、25-160吨/H以上的各种纯化水生产线。
2、RO膜采用美国海德能或陶氏膜元件。RO膜壳为准载不锈钢材质或优质玻璃钢膜壳。
3、原水增压、RO增压、清洗系统等选用南方不锈钢泵或格兰富水泵等。; 4、进口加药，软化装置。进口杀菌消毒装置。离子交换柱采用有机玻璃、碳钢或不锈钢材质。
5、制水过程手/自动互换控制，自动控制采用西门子或ABB同等元器件。
6、根据出水要求，可设计一级反渗透、二级反渗透、反渗透加混合床、反渗透与EDI等多种生产工艺。
7、可满足产水电阻率在0、5-18MΩ、cm ，电导率10∪s/cm以下,各行业的生产。;净得瑞宗旨; 谢谢!
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