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X射线光电子谱(XPS)X-ray Photoelectron Spectroscopy;参考书目;XPS ?? 引言;XPS ?? 引言;XPS ??光电效应 ;XPS ??光电效应;XPS ??X射线光电子谱仪;XPS ??X射线光电子谱仪;XPS ??X射线光电子谱仪;XPS ??X射线光电子谱仪;XPS ??X射线光电子谱仪;XPS ??X射线光电子谱仪;XPS ??X射线光电子谱仪;XPS ??X射线光电子谱基本原理 ;XPS ??X射线光电子谱基本原理;XPS ??X射线光电子谱基本原理;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准 ;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??X射线光电子谱仪的能量校准;XPS ??XPS中的化学位移 ;XPS ??XPS中的化学位移;XPS ??XPS中的化学位移;XPS ??XPS中的化学位移;XPS ??XPS中的化学位移;XPS ??XPS分析方法 ;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析方法;XPS ??XPS分析总结;相关网站-综合类;相关网站-学习资源;相关网站-数据库;相关网站-主要软件;相关网站-资料;仪器说明;仪器介绍： ????Kratos AXIS Ultra DLD型号的X射线光电子能谱仪(X-ray Photoelectron Spectroscopy，XPS)，可使用单色化Al靶X射线源及双阳极Al/Mg靶X射线源，包括大面积XPS，微区XPS及XPS平行成像，场发射俄歇电子能谱(Auger Electron Spectroscopy，AES)；紫外光电子能谱(Ultra-violet electron Spectroscopy，UPS)。 ????Kratos AXIS Ultra DLD可以提供有关样品表面和界面1-10nm的化学信息。可以一次全分析除氢、氦以外的所有原子百分比(at%)大于0.1%的元素，并可以对元素相对含量进行半定量分析(准确度约10%)。最具有特色的是可以测定元素的化学价态及化学环境的影响，并通过角度关系XPS (Angle-Resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy，ARXPS)可以提供约10nm的无损深度剖析(non-destructive depth profiling)；此外，Ar离子剥离法可以提供约100nm的有损深度剖析(destructive depth profiling)和样品表面清洁。;性能指标： ????1.X射线源 ????????靶：单色化Al靶、双阳极Al/Mg靶 ????????功率：450W(最大)????2.真空系统 ????????样品分析室(SAC)：小于5×10-10 Torr(最低压强)????????样品处理室(STC)：小于5×10-9 Torr(最低压强)????3.大面积XPS分析区域 ????????单色器Al靶：700×300μm????????双阳极Al/Mg靶：2000×800μm????4.微区XPS分析区域 ????????110μm，55μm，27μm和15μm????5.离子枪 ????????离子源：Ar????????束流：5μA