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电子工业用氧化铋生产工艺的开发与实践.pdf

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电子工业用氧化铋生产工艺的开发与实践

维普资讯 2001年 8月 云 南 冶 金 A -200l 第 3o卷第4期 (息第 169期) YU NAN MET址 URCr Vo【 30 No 4 (Sum l69 电子工业用氧化铋生产工艺的开发与实践 戴 云,刘 愚,张定宇 (昆明冶金研究院,云南、昆明 650031) 摘 要:介绍了 精铋为原料生产电子级氧化铋的工艺流程、控制条件及产品质量、拟定的工艺由精铋熔融 水淬一硝酸铋水解一硝酸氧铋转型一干燥一煅烧等工序组成.水解工序保flit产品的化学质量,转型工序使产品 为松装比重低的软团聚粉体 关键词:电 级氧化铋;转。鬯;质量 中图分类号:哪 !7 文献标识码:A 文章编号:1006—0308(2001)04—0[122一∞ DevelopmentandProductionPracticeforManufacturing Electronic—gradeBismuthOxide DaiYun,LIE Yu,ZHANG Ding—yu (KunmingMetallurgyReze~ handInstitute,KLmming,Yunnma650031,China) .~dRkSIRACT:Theproductimlfl~ heet.conbol[it#aparameterandproductqualStyofelectronic—gB【d bi~mthwddeproducedhnmre~med bismuthateintroduced n1 t~hnotcC4calp— sconsistsof嘲k卜 quenchingmolttnlblsm,tth一 dralysisof bismuht tlitrate一 g岬 n帆 of BiONO~一aryi~g—calcinafi~ ThehydrolysisⅢo∞du∞guaranteeschemicalqualityof productwhile —cmffiugrafi~ tnak~ 1h producltobesoft — loosea 咧 ewiht lowdensity KEY WORDS:elecm~fic—gradebismuhto:dde;m一∞ 目Ⅱlm;query 达到或超过电子行业对电子级氧化铋的技术要求 1 前 言 (SJ/T10678),其 Bi2 主含量大于99.6%、松装密 氧化铋 (Bi203)粉体作为一种电子功能粉体 度0.4~0.6g/crn]、晶体形态a型单斜晶系、颗粒 掺杂材料,广泛用于敏感元器件、介电陶瓷等电子 形貌为球形、平均粒度0.77turn,经电子元器件厂 元器件的生产中,具有质量要求高、量少面广的特 家使用获得好评 。 点。除了对其化学成分有很高要求外,对其物理性 2 原 料 能诸如颗粒的晶体结构、形貌、粒径、粒径分布、 比表面积以及团聚状态等也有着特殊的要求。 (1)精铋 我院成功开发了氧化铋粉体制备新工艺。该工 电解精铋,块状,化学成分见表 1。 艺由精铋熔融水淬一硝酸铋水解一硝酸氧铋转型一 (2)硝酸 干燥—煅烧等工序组成,水解工序保证了产品的化

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