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薄膜电容器的发展方向.pdf

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薄膜电容器的发展方向

电子 元 件 与 材 料 1989。 (10)I1631 6 冈村久宣等.溶接学会全国大会讲演概要 .第42集 (88 【作 者 简 介】 — 4) l124 高陇桥 毕业于华东化工学院,教授级高工。 现任机 7 粟原保敏,获原一觉 .半导体装置一0AlN一七 , 电部12所副总工程师,北京市人 民政府专业顾 同, 国家秤 夕工0应用技术.七 , 夕工,1991, z6(8)t764 委成果推广专家评 审组成员, 中日内瓷一金属封 接 专家讨 ~ 767 论委员会成员,北京玻璃.搪瓷专业蚕员会副主任,3O多 8 岩本信也,须贺难知.七于} 夕A接合工学.东京都 年来一直从事真空电子器件用内瓷, 玻璃及其和金属 的封 午代 田区 出版社,1990.230 ‘ · 接,系 电真空器件的钎焊和陶瓷与金属封接》一书作者 9 FrancigG L.MetaIlizedsubstrateforelec- 之一, ((透明内瓷》, Ⅸ真空致密膏瓷及其与奎 庸 的封 tronicdevice. US4906514.1990-03-06 接》等三书的译者之一,发表科技论文近lO篇, 曾获全胃 lO 高陇桥 .电_子器件用高导热冉瓷介质材辩前封按技术. 科技大会封接技术成果奖。 电子管技术,1979,(5)l51~61 /,、 薄 膜 电容 器 的发展 方 向 叫 弋 I 如皋无线电三厂 冯 锚 华 摘要 介绍高真空电容镀膜的新发展及趋势,指出并论述 了薄膜 电容器发展的 三个方向。 关键词 薄膜 电容器 复合锌铝金属化薄膜 发展方向 t_— — — — 一 — — — 由德 国莱宝公司主持召开的 “高真空 电 镀膜机外,再也没有生产过普通铝镀膜机。 容镀膜的新发展及趋势”的技术研讨会 于 由此可见,锌铝膜 电容器是薄膜 电容器发展 1991年 7月上旬在江苏南通圆满结束,国内 的主要趋势之一。 三十多家公司、企业、科研单位的代表出席 、勺什么铝膜 电容器在短短的几年内就被 了会议。尽管会议是研讨 电容镀膜技术的, 裹 1 但从另一个侧面向我们展示了世界薄膜电容 年 份 日 本 韩 国 中 国 器的新发展及趋势。现将有关会议内容加以 1989 1 1 整理介绍,期望对我国的薄膜电容器生产有 1989 3 所裨益。 1990 2 1 一 、 复合锋铝金属化薄囊电容器 1991 l 2 1 自1987年第一台复合锌铝镀膜机问世 以 锌铝膜 电容器取而代之?

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