镀膜技术在陶瓷上的应用.pdf

江苏陶瓷 JIANGSUCERAMICS Vo1．30No．2(1997) 镀膜技术在陶瓷上的应用 } 张存君 ， (江苏省新沂 厂 22l400) 丫工l1]、。乙 摘 要 叙述了镀膜技术的种类和特点以及应用于陶瓷产品上存在问题和解决方法。 关键词 堡壁技术 堕兰 应用商、 ≮i7禹． 1 前 吉 成分的靶；(b)装卸靶不太方便；(c)靶的利用率不太 高等缺点。 近年来，不少厂家为了降低生产成本、提高陶瓷 溅射镀的种类 ：(a)--极溅射；(b)三极溅射；(c) 产品的使用功能及装饰教果 ，纷纷采用无污染、耗能 平面磁控溅射 ；(d)极磁控溅射；(e)磁控溅射离子 低、操作方便、性能稳定、工作周期短、效果好的真空 镀等几种 。 镀膜技术 因磁控溅射离子镀具有不受材质限制 ，不用酸 碱盐无三废处理 ，镀膜与基 体 问有 2～4m厚 的过 2 镀膜技术的种类及特点 捩层附着性好 ，耐腐蚀性好等特点梭广泛地应用于 陶瓷产品装饰上。 其工艺流程及要求为： 镀膜技术也叫薄膜技术，是在真空条件下来用豹 工件清洗——一烘于一 人炉——一抽真空 理或化学原理 ，使物体表面获得所需的膜体。它是马 工件先进行超 达1．33Xl0‘以上 克斯 ·奥维特 (Max·auwater)教授在30年代 中期研究 声搜清洗．再 瓷器一般在40min左右 出来的～种新技术，直到 70年代后期才得到较大的 用丙酮，j酉精 陶器一般在60min左右 清抒} 发展，已被广泛地应用于耐酸、表面硬化、耐腐蚀、耐 热、装饰、润滑、磁光记录、光学、光 电通迅、电子集成 — — 一 溅射清洗 一 一 喷镀 电路、声学、能源、塑料、玻璃、陶瓷、纸张等领域。 真空度选0．13～1．33Pa 真空度进1．33x10一～10Pa 矗射l5 时问祝膜厚要求 该技术包括溅射、化学气相沉积、蒸发、分子柬 而定，一般为10～20min 外延等在内的使表面厚度增加的成膜技术和离子束 停机出炉— — 一上保护漆 刻蚀、等离子刻蚀 、反应离子刻蚀等在内的使表面厚 祝用途而定 度减少的加工技术及离子注入、离子束混台改性等 在内的不改变表面尺寸只改变表面性能的改性技术 和薄膜检测、薄膜应用 、表面清洗等技术。目前，在 陶瓷产品上应用最广泛的是溅射镀和离子镀。 2．1 溅射镀 溅射镀膜是指在真空室中利用荷能离子轰击靶 表面，使被轰击出来 的粒子在基片 (陶瓷产 品)上沉 积 的技术。 溅射镀方法的优点：(a)膜与