硅的性质与应用习题及答案.doc

  1. 1、本文档共5页,可阅读全部内容。
  2. 2、有哪些信誉好的足球投注网站(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
碳、硅的性质与应用习题 一、选择题(本题包括10小题,每小题6分,共60分) 1.据《参考消息》报道,有科学家提出硅是“21世纪的能源”、“未来的石油”的观点。假如硅作为一种普遍使用的新型能源被开发利用,下列关于其有利因素的说法中,你认为不妥的是(  ) A.便于运输、储存,从安全角度考虑,硅是最佳的燃料 B.自然界的含硅化合物易开采 C.硅燃烧放出的热量大,燃烧产物对环境污染程度低且容易有效控制 D.自然界中存在大量单质硅 2.(预测题)下列关于硅单质及其化合物的说法正确的是(  ) ①硅是构成一些岩石和矿物的基本元素②水泥、玻璃、水晶饰物都是硅酸盐制品 ③高纯度的硅单质广泛用于制作光导纤维④陶瓷是人类应用很早的硅酸盐材料 A.①②   B.①④    C.②③    D.③④ 3.下列说法不正确的是(  ) A.在粗硅的制取中,2C+SiO2Si+2CO↑硅被还原,并不能说明碳的还原性大于硅的还原性 B.用SiO2制取硅酸,应先使二氧化硅与氢氧化钠溶液反应,然后通CO2 C.(2011·江苏高考)二氧化硅不与任何酸反应,可用石英制造耐酸容器 D.(2011·广东高考)精炼粗铝时要清除坩埚表面的石英砂,铝与石英砂反应的方程式为3SiO2+4Al3Si+2Al2O3 4.(2012·蚌埠模拟)根据陈述的知识,类推得出的结论正确的是(  ) A.Fe3O4可以表示为FeO·Fe2O3,则Pb3O4也可以表示为PbO·Pb2O3 B.苯不可使酸性高锰酸钾溶液退色,则甲苯也不可以使其退色 C.Si是半导体材料,则Ge也是半导体材料 D.镁条在空气中燃烧生成的氧化物是MgO,则钠在空气中燃烧生成的氧化物是Na2O 5.(2012·郑州模拟)下列各物品或材料的主要成分为硅酸盐的是(  ) A.水玻璃         B.光导纤维 C.计算机芯片 D.石英钟表 6.下列关于硅酸盐材料的说法错误的是(  ) A.生活中常见的硅酸盐材料有玻璃、水泥、陶瓷B.普通玻璃的主要成分是SiO2 C.陶瓷的主要原料是黏土D.硅酸盐水泥以石灰石和黏土为主要原料 7.以氮化硅(Si3N4)和氧化铝(Al2O3)为原料,采用常压烧结或热压工艺制备赛伦。赛伦的化学通式为Si6-xAlxOxN8-x,以耐高温、高强度、超硬度、耐磨损、抗腐蚀等性能为主要特征,因此,在冶金、机械、光学、医学等领域有重要应用。它属于(  ) A.金属材料B.有机高分子材料C.新型无机非金属材料D.无机高分子材料 8.已知硅能与强碱溶液反应放出氢气,同时生成硅酸钠。现有一种粗铝含铁、硅两种杂质,取等质量的样品,分别投入足量的稀盐酸和氢氧化钠溶液中,充分反应后都放出等量的氢气,则粗铝中铁和硅的物质的量之比为(  ) A.1∶1   B.2∶1   C.1∶2   D.3∶1 9.(易错题)将足量CO2气体通入水玻璃(Na2SiO3溶液)中,然后加热蒸干,再在高温下充分灼烧,最后得到的固体物质是(  ) A.Na2SiO3 B.Na2CO3、Na2SiO3 C.Na2CO3、SiO2 D.SiO2 10.(2012·银川模拟)科学家必威体育精装版研制的利用氯化氢和氢气生产高纯硅的工艺流程如图所示: 容器①中进行的反应为Si(粗)+3HCl(g)===SiHCl3(l)+H2(g);容器②中进行的反应为SiHCl3+H2===Si(纯)+3HCl。下列说法中正确的是(  ) A.该工艺流程的优点是部分反应物可循环使用 B.最好用分液的方法分离Si和SiHCl3 C.反应①和②中HCl均作氧化剂 D.反应①和②属于可逆反应 二、非选择题(本题包括3小题,共40分) 11.(12分)在下列物质的转化关系中,A是一种固体单质,且常作半导体材料,E是一种白色沉淀,F是最轻的气体单质。 据此填写: (1)B的化学式是    ,目前在现代通讯方面B已被用作    的主要原料。 (2)B和a溶液反应的离子方程式是_______________________________。 (3)C和过量盐酸反应的离子方程式是____________________________。 12.(14分)硅单质及其化合物应用范围很广。制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,工业上可按如下流程制备高纯硅。 试回答下列问题: (1)第Ⅰ步制备粗硅的化学方程式为_____________________________, 该反应中氧化剂与还原剂的物质的量之比为    。第Ⅳ步反应的化学方程式为______________________________。 (2)坩埚常用于实验室灼烧或熔融固体物质,则熔融烧碱时,不能使用的坩埚是_____  (填字母)。 A.普

文档评论(0)

hzhplyvb8 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档