DirectExposure描式曝光机DE-6UHⅡ.PDF

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DirectExposure描式曝光机DE-6UHⅡ

Direct Exposure | �描式曝光机 DE-6UH 封装基板用高精细�描式曝光机 超群的技术 -同时实现高解像度与生产率 维亚机械株式会社 Via Mechanics,Ltd. 封装基板用高精�描式曝光机 DE-6UH 引领次代线路成形、引人注目的�描式曝光机 ■解析度和生产性的并立显示出、证明了超群的技术实力・高精度 高精度光源机组 JOB Viewer操作画面 为应对更精细的回 路制造需求、我们 不停的改进已有的 �描光学系统光学 系技術、实现了加 L/S=8um (DFR 25umt) L/S=5um (DFR 15umt) 工点�径的微细化。达成业界最高的L/S=8um、并继续研发出 L/S=5um的解像度。 新机的扫描速度比以往机型提高1.4倍、大幅度地提高了生产效率。 同时、达成描画精度| | σ< AVE +3 7um 各种描画数据可以瞬间得到确认、 实现了快捷方便的操作环境 独自光源及高精度光学 ■以业界顶级的技术实力为生产性提升做出飞跃贡献 系统的改进实现了微细 灵活对应多种模式。多区域的实时补正、搭载预对位 光束均一照射及犀利的 DE-6UH E 能量分布 相机的高精度移动轴、使每张基板的处理效率得以改进、为生产性 的提升做出了飞跃的贡献。 另外、由JOB viewer专注于生成作业可视化和条件生成自动化、 在线控制系统让产品在线统一管理得以容易实现、并提供内容丰富 装配对位用摄象机的高精度移动轴 的各种选项。 ■智能化高品质维护性能 配备了激光输出的跟踪监视和修正功能、光轴间 DE-6UH E 装备了自动监视系统、追求智能化高品质的维护。 另外本体的小型化设计使得与胶片曝光机的调换更为容易。 不依赖于对位点的 位置、使分割描画时 对位处理时间得到缩短 设置面积 /主要规格 DE-6UH E 項 目 内容

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