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Ni掺杂WO薄膜的电致变色性能
第26 卷 第2 期 材 料 科 学 与 工 程 学 报 总第112期
Vol 2 6 No 2 J our nal of Mat erial s Science Engineerin g Ap r . 2 00 8
文章编号 (2008)
Ni 掺杂 WOx 薄膜的电致变色性能
黄佳木 ,徐爱娇 ,穆尉鹏
(重庆大学材料科学与工程学院 ,重庆 400045)
【摘 要】 采用磁控溅射工艺 , 以纯钨和纯镍为靶材在 ITO 玻璃上制备 Ni 掺杂 WOx 电致变色薄膜 ,研究了
Ni 掺杂对 WOx 薄膜电致变色性能和微观结构的影响机理 。实验结果表明:均匀掺杂少量的 Ni 可改变 WOx 薄膜
内部的缺陷分布及结构 ,提高薄膜的电致变色性能 。XRD 分析表明 ,掺杂后的 WOx :Ni 薄膜为非晶态 ; XP S 分析
表明:WOx :Ni 薄膜中的Ni 为 Ni2 + 。
【关键词】 WOx :Ni 薄膜 ; 电致变色 ;掺杂 ;磁控溅射
中图分类号 :O484 . 4 ; TN 304 . 8 文献标识码 :A
Electrochromic Properties of WOx Fil m with Nidoping
HUANG Jiamu , XU Aij iao , M U Weipeng
( College of Material Science and Technology of Chongqing University , Chongqing 400045 , China)
【Abstract 】 U sing p ure t ungst en and nickel as t ar get s , Nidop ed WOx film s were depo sit ed on t he ITO gla ss by Reactive
Magnet ron Sp utt ering . The elect rochromic p erformances and st ruct ure of t he film s were analyzed . The influence mechani sm
of Ni doping on t he elect rochromic p erformances and st ruct ure of WOx film s were st udied . A s demon st rat ed in t he
exp eriment , t he di st ribution of vacancies and t he st ruct ure were changed by Ni doping , which al so result s in t he imp rovement
of elect rochromic p erformance . The XRD analysi s show t hat t he mixed film i s in t he amorp hou s st at e . Ni2 + i s det ect ed in
WOx : Ni film by XPS.
【Key words】 WOx :Ni t hin film ; elect rochromic ; doping ; magnet ron sp utt ering
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