罗门哈斯半导体、光学抛光耗材.PDF

致联-创造精密平面加工的先进技术 罗门哈斯半导体 、光学抛光耗材 RohmHass Semiconductor/Optics polishing Materials 罗门哈斯是世界上最大的精细化工制造商之一，其用于半导体衬底和 集成电路硅片抛光的抛光垫片和抛光液产品代表了行业的最高水平， 并形成了行业的标准。 SUBA-型号 厚度(mm)硬度(Asker C) 压缩比(%) 应用工序 SUBA 400 1.27 61 8.0 中抛 SUBA 400H 1.27 66 7.0 中抛 SUBA 600D 1.27 78 4.0 粗抛、中抛 SUBA 600 1.27 80 4.0 粗抛、中抛 SUBA 640 1.27 82 3.0 粗抛、中抛 SUBATM 系列抛光垫片用于半导体晶片的粗抛和中 SUBA 800 1.27 82 4.0 粗抛 抛,具有高抛光速率、高平坦度和更低晶片缺陷等 SUBA 840 1.27 86 2.6 粗抛 优点。SUBA 系列抛光垫片可用于对硅片、锗片、 磷化铟、砷化镓、光学玻璃、陶瓷、蓝宝石衬底片 等材料的抛光;SUBATM 系列抛光垫片可以根据客户 的工艺要求进行开槽以增加抛光液的流动性、提升 抛 光 效 率 并 提 高 抛 光 精 度 。 Supreme型号 厚度(mm) 压缩比(%) Supreme RB-H 1.53 13.8 Supreme RN-R 1.43 14.8 Supreme (Politex) 系列抛光垫片用于对半导体晶片的半精 抛或精抛，以获得没有缺陷的晶片表面。 Supreme 系列抛 光垫片可以对硅片、砷化镓、磷化铟、玻璃硬盘、光学玻璃、 蓝宝石晶片、碳化硅晶片等材质或工件进行精密抛光。 MachplanerTM MS2000是罗门哈斯专为蓝宝石衬底片抛 光应用而研制的抛光液，MS2000可以获得很高的抛光 效率同时对晶片损伤层(Damaged Layer)的抛光具有高 选择性，可以有效的缩短化学机械抛光的时间。 NanopureTM 系列抛光液用于硅片的 传统胶体二氧化硅抛光液 TM 抛光,在抛除效率、晶片几何形状控 Machplaner MS2000 制、Haze 的控制等方面都有优异的 表现. 无蜡抛光模板 Template及吸附