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介质阻挡放电等离子体与吸附在CuZSM-5上的NO或NOO 2的相互作用
理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao)
1214 A cta Phys. Chim. Sin., 2008, 24(7) ：1214-1218 July
[Article]
介质阻挡放电等离子体与吸附在CuZSM 5 上的NO
或NO/O2 的相互作用
琪1,2, 任 亮2 牛金海1 宋志民1
(1 大连理工大学等离子体 理化学实验室, 辽宁大连 116024; 2 辽宁师范大学化学化工学院, 辽宁大连 116029)
摘要： 采用吸附和程序升温脱附(TPD)技术研究了介质阻挡放电等离子体对CuZSM 5 催化剂上吸附的氮氧化
作用. 实验表明, 介质阻挡放电等离子体使催化剂表面吸附的NO 及Cu 活性位上吸附的NOx 种脱附, 并引
发表面化学反应生成新的氮氧化 . 对于NO/N2 体系, 介质阻挡放电等离子体与吸附在CuZSM 5 上NO 作用,
主要生成N O 和O . 在富氧体系NO/O /N , 则生成较大量的N O、NO 和NO. 等离子体预处理活性下降的
2 2 2 2 2 2
CuZSM 5, 可明显 高其催化分解NO 活性. 对比有或无介质阻挡放电等离子体预处理NO 或NO/O2 饱和吸附
的CuZSM 5 上的NO TPD 结果表明, 等离子体提高催化剂活性的原因与其使催化剂Cu 活性位上吸附的NOx
种脱附有关.
关键词： CuZSM 5; 程序升温脱附; 介质阻挡放电; 氮氧化
中图分类号： O643
Interactions of Dielectric Barrier Discharge Plasmas with NO or
NO/O Adsorbed on CuZSM 5
2
SUN Qi1,2, REN Liang2 NIU Jin Hai1 SONG Zhi Min1
1
( Laboratory of Plasma Physical Chemistry, Dalian University of Technology, Dalian 116024, Liaoning Province, P. R. China;
2College of Chemistry and Chemical Engineering, Liaoning Normal University, Dalian 116029, Liaoning Province, P. R. China)
Abstract ： In order to understand the synergistic effects between dielectric barrier discharge (DBD) plasmas and
catalysts, the interact
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