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镀层硫化氢测试腐蚀分析
一、腐蚀的理论分析:
a. 产品结构示意图; 图1
附着在镍层上的电镀金层(Au)孔隙率高,且厚度很薄。金在镍上的分布就如我们常见的
芝麻饼上的芝麻一样。微观示意图如下: 图2
b. 反应原理:
在潮湿、高温的条件下,疏松多孔的金层与镍层会发生原电池腐蚀:镍为阳极,金为阴极,
这种腐蚀在酸性条件下加速。镍层逐渐被腐蚀,金层脱落、剥离;当镍层出现孔洞后,又发
生镍、铜间的原电池腐蚀,于是镍可能被完全腐蚀掉,直至漏出铜层。
在硫化氢测试环境下,发生的化学反应如下:(硫化物的产生,使得反应平衡向右移动)
⑴. 硫化氢的电离:
H2S H+ + HS-
HS- H+ + S2-
⑵. 镍与金、镍与铜间的原电池腐蚀:(都是镍的腐蚀)
镍层(阳极)反应: Ni– 2e Ni2+
Ni2+ + S2- NiS (黑色)
金(铜)层(阴极)反应: 2H+ + 2e H2
⑶. 当铜层裸露出来后,铜与其自身所含有的其他物质(如碳等),也能发生原电池腐蚀:
Cu – e Cu+ Cu–2e Cu2+
2Cu+ + S2- Cu2S (灰黑色)
Cu2+ + S2- CuS (黑色)
⑷.可能还有其他的少量的缓慢反应,如硫化氢被缓慢氧化成硫,再到SO2 , SO3 ,H2SO4,进
而与镍、铜离子生成绿色的硫酸镍和蓝色的硫酸铜。反应方程式不再累述。
二、客户不良样品图片:(样品部提供的不良样品)
a.手指表面的腐蚀:
b. 手指顶端(冲切区):可能预示着手指冲切后需做防氧化处理
三、硫化氢测试条件:
硫化氢浓度 测试温度 测试湿度 测试时间 100 ppm 50℃ 50% 72H
四、改善方向和方案
a. 改善方向:尽量消除导致镀层发生原电池腐蚀的内部环境:
1. 增加金层厚度,减少金层孔隙率;
2. 对金面进行封孔处理;
3. 适当加厚镍层;
4. 对比不同镍金沉积方法的耐腐蚀强度的差别。
b. 试验改善方案:试验产品共30 PNL
1.电镀镍金(镍厚按上限控制),对不同金厚的产品试行封孔处理(药水名称为ST-2和ATT-200)
金层厚度 < 0.1 um < 0.2 um < 0.3 um < 0.4 um 金面处理方式 ST-2 2 PNL 2 PNL 2 PNL 2 PNL ATT-200 2 PNL 2 PNL 2 PNL 2 PNL 不做处理 2 PNL 2 PNL 2 PNL 2 PNL
2.化学镍金:镍厚按上限控制,对不同金厚的产品试行封孔处理(药水名称为ST-2和ATT-200)
金层厚度 ST-2 ATT-200 不做处理 0.05 um 1 PNL 1 PNL 1 PNL 0.1 um 1 PNL 1 PNL 1 PNL
3.封孔剂性质:(药水供应商宣称)
药水名称 操作温度 配比浓度 盐雾测试 H2S测试 SO2测试 皮膜耐温性 耐酸碱性 ST-2 20~50℃ 20% 48H 没做过 24H 不清楚 最怕盐酸 ATT-200 40±5℃ 5% 48H 没做过 不清楚 120℃ 耐受性差
五、硫化氢测试: 先全测镍金厚度
按上述客户测试环境测试,但在时间上稍作变化:总时间72H,但每4H 检查记录一次,并同时拿
出1~2 PCS产品,标识封存,试验完全结束后拿回本司供对比分析,
六、试验品“5594Y4”制作 2012-9-28 已经完成镍金,激光后再行封孔。镀镍金在2#线。
a. 生产参数
预设金厚规格 <0.1 um <0.2 um <0.3 um <0.4 um 电镀镍金参数 镀镍电流密度DK 2.0ASD 2.3ASD 2.3ASD 2.3ASD 镀镍时间 t 9mim 9mim 9mim 9mim
预设金厚规格 <0.1 um <0.2 um <0.3 um <0.4 um 电镀镍金参数 镀金电流密度DK 0.4ASD 0.8ASD 0.8ASD 0.8ASD 镀金时间 t 2.0mim 3.5mim 7mim 10.5mim
预设金厚规格 <0.1 um <0.2 um 沉镍金参数 沉镍时间 min 22 22 沉金时间 min 9.5 21 b. 电镀镍金镀层实际测量厚度
电镀
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