ASCENTDMS先进的双磁控靶溅射电源系统30-180KW.PDF

® ASCENT DMS 先进的双磁控靶溅射电源系统 30 - 180 KW 促进尖端应用的创新 促进尖 端应用的 创新 ® The Ascent DMS 系列为双磁控靶溅射应用提供了前所未有的 功率输出便利和控制能力，可以精确调控薄膜特性。具备可选的频 率、调节模式、占空比以及低电弧储能和简洁的模块化系统配置、使 Ascent DMS 电源系统与众不同、成为新一代的双磁控靶溅射电源 方案。依靠高性价比、可扩展性和多功能等特性、最大限度降低了设 备复杂程度提高了镀膜质量与产能、从而实现高端的的工艺创新。 层值实现创 块扩 溅应 镀 组输 镀产 频选 设备资 电电压 输电 调输 扩术 单运 溅电电 备 µ 用于双磁控靶溅射应用的优化双极性波形图 提升了膜层价值：实现可重复的、定制的镀膜 通过选择频率 (500 Hz - 50 kHz)、控制方式（电压、电流或 打造最符合用户应用要求的膜厚度、均 功率）和占空比 ( 5 - 95 %)，打造最符合用户应用要求的膜层 匀度、透过率和电阻率。 致密度、均匀性、透过率和电阻率。 固定频率输出消除了谐振频率的变化，稳定了工艺条件，从而 提供卓越的镀膜可重复性。低储能减少了电弧导致的工艺污 染和膜缺陷。 DC 2 kHz 20 kHz 精准的膜特性调节，适用于先进精密镀膜应用 靶材利用率不低于 85% 更低的设备先期投资成本与更高的镀膜产能 在双磁控靶溅射过程中，可单独控制通入到每个磁控靶的功率，确保双磁控靶靶材同步消耗，同时固定频率的输出减少了 电弧能和靶