氧对于在!#$氛围下用近空间升华法制备的%薄膜的.PDF

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氧对于在!#$氛围下用近空间升华法制备的%

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 A’ ) %%) ) , , , 8MH /A’ WM /) ,?XT?I?Y %%) ( ) !%%%9*)%-%%)-A’ %) -$$A9%$ 4+4 3BV,:+4 ,:W:+4 !%%) +UG; / 3USZ / ,ML / 氧对于在!# $ 氛围下用近空间升华法制备 的%’ 薄膜的影响! )) ) ) ) ) ) ) ! ! ! ! # ! ! ! 夏庚培 冯良桓 蔡亚平 黎 兵 张静全 郑家贵 卢铁城 !)(四川大学太阳能材料与器件研究所,成都 $!%%$ ) )(四川大学物理系,辐射物理及技术教育部重点实验室,成都 $!%%$ ) ( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿) %%’ ( ) %%) ! !* 采用近空间升华法( )在氩 氧气氛中制备了硫化镉( )多晶薄膜 利用 , , , 光谱和四 +,, - +., / 012 03, 456 7898:, 探针技术等测试和分析手段系统研究了氧对薄膜的成分、结构、光学和电学等性质的影响/ 结果表明,用近空间升 华法制备的 薄膜具有六方相结构,膜层致密、均匀,平均晶粒大小约为 ,富硫 氧掺入后部分与镉生成氧 +., % ; / 化镉,并随着氧含量的增加,薄膜的成分有趋于化学计量比的趋势,光学带隙加宽,光暗电导比增加 此外,还利用 / 扫描电镜( )观察了 断面结合光谱响应( )的结果讨论了氧对 界面互扩散的影响 发现,随 ,=6 +.,- +.? @= +.,- +.? / 着 薄膜制备气氛中氧分压的升高, 界面的互扩散程度降低,有利于提高器件在 — 波长范围 +., +.,- +.? A%% $%% ; 内的光谱响应 认为,氧含量的增加不但使 薄膜在光伏应用方面的质量得到改善,而且 太阳电池器件中 / +., +.? 的+.,- +.? 界面也得到了优化/ 关键词: 多晶薄膜,近空间升华法,窗口层,界面 +., : , , , (!%% (% ’

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