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本节首先在不考虑载流子速度的统计分布情况下,采用简单的模型来讨论电导率、迁移率和散射概率的关系,进而讨论它们与杂质浓度和温度的关系。 载流子在电场中作漂移运动时,只有在连续两次散射之间的时间内才作加速运动,这段时间称为自由时间。 自由时间长短不一,若取极多次而求得其平均值则称为载流子的平均自由时间,常用 来表示。 平均 自由时间和散射概率是描述散射过程的两个重要参量。 下面以电子运动为例来求得两者的关系。设有 N个电子以速度v沿某方向运动,N(t)表示在t时刻尚未遭到散射的电子数,按散射概率的定义,在 t ~ (t+△ t)时间内被散射的电子数为 所以N(t)应该比在(t+△ t)时尚未遭到散射的电子数N(t+△ t)多 ,即 当△ t很小时,可以写成 上式的解为 N0是t=0时刻未遭到散射的电子数,代入(4-34),得到时间t ~ (t+d t)内被散射的电子数为 在t ~ (t+dt)时间内遭到散射的所有电子的自由时间均为t,则这些电子的自由时间总和为 对所有时间积分,就得到N0个电子自由时间的总和,再除以N0便得到平均自由时间 因为在t ~ (t+dt)时间内遭到散射的电子数为 每个电子在这期间获得的速度为 两者相乘再对所有时间积分就得到N0个电子漂移的速度总和,除以N0就得到平均漂移速度 因为每次散射后, 方向完全无规则,即散射后向各个方向运动的概率相等,所以,多次散射后 ,所以 表示电子的平均自由时间。 根据迁移率的定义 ,可以得到: 同理 结合电导率的定义,可以得到电导率和平均自由时间的关系: 因为任何情况下,几种散射机制都会同时存在。 对于同时有多种散射机构存在时,就需要找出其主要作用的散射机构,它的平均自由时间特别短,散射概率特别大,因此,其他散射机构的贡献就可以忽略,迁移率也主要由这种散射机构决定。 对于补偿型半导体,载流子浓度决定于两种杂质浓度之差,即n=ND-NA或P=NA-ND。但是迁移率与电离杂质的总浓度有关,即决定于ND+NA。 因为同种掺杂浓度下,电子的迁移率大于空穴的迁移率,所以图a是p型半导体,通过空穴导电,图b是n型半导体,通过电子导电。 又因为同一温度下,掺杂浓度越高,迁移率越低,所以N1N2N3N4N5 重掺杂时(1018cm-3): ?~N曲线偏离反比关系 ① 杂质在室温下不能全部电离。 ② 迁移率随杂质浓度增加而下降。 电阻率与温度的关系 (1) ?与N的关系 轻掺杂时(1016~1018cm-3):室温下杂质全部电离,即n=ND或者p=NA。此时,?随N的变化不大,所以 ?与掺杂浓度N成反比,杂质浓度越高,电阻率越小。 工艺生产中,用四探针法可以直接测出硅片的电阻率,就可以查表知道杂质浓度。反之知道杂质浓度,就可以查表得电阻率。 但是对高度补偿型半导体,杂质很多,导电载流子却很少,电阻率很大,不能以此来判断材料的纯度。而且这种材料杂质很多,迁移率很小,因此不能用于制造器件。 (2) ?与T的关系(本征半导体和杂质半导体) 随温度的升高ni急剧增加,?只有少许下降,所以? 随T升高而降低。 如:Si在室温附近,每增加8℃,ni增加1倍,?下降一半。Ge在室温附近,每增加12℃,ni增加1倍, ? 下降一半。 第四章02 第四章02 第四章半导体的导电性 §4.1 载流子的漂移运动 迁移率 §4.2 载流子的散射 §4.3 迁移率与杂质浓度和温度的关系 §4.4 电阻率与杂质浓度和温度的关系 §4.5 玻尔兹曼方程、电导率的统计理论 §4.6 强电场下的效应 一.平均自由时间?和散射概率P的关系 二.电导率、迁移率与平均自由时间的关系 三. 迁移率与杂质和温度的关系 §4.3 迁移率与杂质浓度和温度的关系 迁移率? 单位电场作用下载流子获得的平均速度,反映了载 流子在电场作用下输运能力。 迁移率? 一、平均自由时间和散射概率的关系 描述散射的物理量 散射概率P:单位时间内一个载流子受到的散射的次数 平均自由时间 :连续两次散射之间自由运动时间的平均值 也就是说,平均自由时间等于散射概率的倒数 t dt 二. 电导率、迁移率与平均自由时间的关系 求得 和 的关系,就可以 求 、 与 的关系 设在x方向施加电场 ,设电子有效质量 各向同性,受到的电场力 。在两次散射之间的加速度 。刚好遭到一次散射的时刻作为记时起点,散射后沿x方向速度 ,经过t时间后又
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