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半导体的基本原理
2001/3/8 2001/3/8 由於MOSFET的響應頻率受制於gate端的有效R和C的值,所以可以從一些技術手冊中的參數大概估算出MOSFET的最高工作頻率。阻抗部分主要取決於polysilicon-gate overlay結構中薄層的電阻值,該值大約是20歐姆。鑒於在技術手冊裡一般不會給出總的R的值,Ciss一般會給出:以最大值的方式表示,同時會以圖示的方式來反映出其與drian-to-source電壓的關系。 工作頻率(Operating Frequency) Ciss的值跟chip size有關;chip越大,Ciss值越大。由於MOSFET的輸入端的RC組合勢必會在driving circuit的作用下有一個charge和discharge的問題,而且由於容量的支配,較之於較小的chip,較大的chip開關速度較慢,因此,較大chip的MOSFET適合用在低頻的應用電路裡面。總而言之,絕大部分的的MOSFET最高使用頻率在1Mhz到10Mhz之間。 工作頻率(Operating Frequency) 輸出特性(Output Characteristics) MOSFET最常用的graphical data可能是輸出特性曲線或者是drain-to-source電流(Ids)與drain-to-source電壓(Vds)的關系曲線圖。典型的曲線圖如圖Figure6所示,給出的是在不同Vgs的情況下,Id隨著Vds變化的一個關系曲線圖。 MOSFET需要一個高輸入電壓(至少10V)以使它們可以以full rated 的Id狀態來工作。 曲線圖可以分為兩個部分:一個是線性區,Vds較小,Id隨著Vds的增加而線性增加;另外一個是飽和區,Vds增加的時候,Id基本上沒有什麼變化(器件相當於一個恆流源)。電流變化的線性部分和飽和部分交匯的區域稱之為(pinch-off region) 輸出特性(Output Characteristics) 驅動要求(Drive Requirements) 當我們考慮需要一個多大的Vgs才能使一個MOSFET工作的時候,注意到在圖Figure6裡面,MOSFET在Vgs達到一個特定值(稱之為導通電壓)之前,MOSFET是不會導通的(沒有電流流過)。換句話說,開啟電壓一定要達到一定的值以後,我們才能期望得到想要的Id電流。對許多的MOSFET來講,其開啟電壓一般為2V。在選擇一個MOSFET或設計MOSFET的驅動電路的時候,這是一個重要的考慮因素:gate極驅動電路必須提供一個至少等同開啟電壓大小的電壓,不過我們建議,這個電壓應該比開啟電壓大一些。 如圖Figure6所示,MOSFET必須要有一個一定大小的電壓才能去驅動它,比如是10V,才能確保它以最大的飽和電流的狀態來工作。但是有些IC電路,如TTL型的IC電路,在沒有加external的pull-up電阻時,沒有辦法提供所需大小的電壓。即使把電壓pull-up到了5V,TTL驅動電路仍無法完全使MOSFET工作在飽和狀態。因此,TTL驅動電路最適合用在當開關的電流(Id)遠小於rated current的場合。 驅動要求(Drive Requirements) CMOS IC的驅動電路可以提供10V的激勵電壓,這些器件有能力驅使MOSFET工作在Full Saturation的狀態。換而言之,,CMOS無法做到像TTL驅動電路一樣的開關速度。最好的做法是,不管是採用TTL還是CMOS IC,當我們在IC的output和gate極的input之間嵌入特殊的buffering chip去滿足MOSFET的gate極的需求時,兩種方式都可以實現驅動的目的。 驅動要求(Drive Requirements) 半導體的基本原理 按導電性能的不同,物質可分為導體,絕緣體和半導體。目前用來制造電子器件的材料主要是單晶半導體硅(Si)和鍺(Ge). 硅和鍺都是四價元素,其原子圖如下所示: 純凈的半導體稱為本征半導體,會形成如下的空間點陣 半導體的基本原理 在受熱或有外加電場的情況下,共價鍵中的價電子有可能掙脫共價鍵的束縛而形成自由電子,帶“-”電,其原來的位置形成一個帶“+”電的空穴。 相鄰共價鍵內的電子在正電荷的吸引下會填補附近的空穴,從而把空穴移動到別處去。依此類推,空穴便可在整個晶體內移動。當有電場作用時,價電子定向地填補空位,使空位做相反方向的的移動,這與帶正電荷的粒子做定向運動的效果完全相同。在這裡
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