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RIE 精确传递微光学三维结构于红外材料的方法 - 光子学报
28 9 1. 28 . 9
Vo No
1999 9 ACT A PHOT ONICA SINICASeptember 1999
RIE
邱传凯 杜春雷 潘 丽 曾红军 王永茹
( , , 610209)
本文对红外光学材料锗的蚀刻性能、机 进行了深入的研究, 在反应离子蚀刻( RIE)
实验基础上, 建立了锗材料蚀刻性能与RIE 工艺参量的关系, 经过大量的实验, 找到了稳定蚀
刻速率的方法和条件, 为用RIE 技术形成高精度衍射微光学元件积累了实用经验.
反应离子蚀刻; 微浮雕结构; 蚀刻率
0
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1
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, Fig. 1Layout of reactive ion et ching system
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( 00 / ) ,
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收稿日期: 1999—0 —26
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200nm , ( ) ,
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