偏压对挡板电弧离子镀TiAlN涂层性能的影响-南昌航空大学期刊网.PDF

27 2 : Vol． 27 ． No． 2 第 卷第 期 南昌航空大学学报 自然科学版 20 13 6 Journal of Nanchang Hangkong University :Natural Sciences Jun． 20 13 年 月 偏压对挡板电弧离子镀TiAlN 涂层性能的影响 冯长杰 胡 弦 江鸢飞 ( ， 330063) 南昌航空大学 江西 南昌 ［ ］ ， 1Cr11Ni2W2MoV TiAlN 。 Ti50Al50 摘 要 采用电弧离子镀技术和挡板 在 不锈钢基体上沉积 涂层 圆形挡板放置于 合金 ， 。 ， 0V 、150V 、350V 、550V 。 SEM / EDS 、XRD 靶和试样架之间 尺寸与靶材直径相同 沉积实验在不同偏压下进行 分别为 采用 、 ， TiAlN 研究挡板作用下偏压对涂层微观结构 成分的影响 通过显微硬度计和摩擦磨损试验研究偏压对 涂层力学性能的影 。 ， ，TiAlN Ti ，Al ， 。 响 结果表明 随着偏压的增大 涂层中 含量上升 含量下降 涂层由两相结构向单相结构转变 涂层表面熔滴数 ， ， － 150V 。 ，－ 150V 量随偏压增加而减少 涂层硬度上升 沉积速率在 偏压时达到最大 摩擦磨损测试结果表明 偏压时涂层摩 ， 。 擦系数和磨损量最小 耐磨性最好 ［ ］ ;TiAlN ; ; ; 关键词 电弧离子镀 挡板 偏压 摩擦学性能 ［ ］TG174 ［ ］A ［ ］1001 － 4926 (2013)02 － 0063 － 06 中图分类号 文献标志码 文章编号 Effect of Bias Voltage on the Properties of TiAlN Coating by Shielded Arc ion Plating FENG Chang － jie HU Xian JIANG Yuan － fei (Nanchang Hangkong University ，Nanchang ，Jiangxi 330063 ，China) Abstract :TiAlN coating was deposit