双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬硼薄膜在光学模造玻璃模仁之应用研究.PDF

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双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬硼薄膜在光学模造玻璃模仁之应用研究

行政院國家科學委員會專題研究計畫 成果報告 雙極脈衝磁控濺射沉積氮化鉻硼薄膜在光學模造玻璃模仁 之應用研究-高溫之特性研究及實物測試破損分析 研究成果報告(精簡版) 計 畫 類 別 : 個別型 計 畫 編 號 : NSC 99-2221-E-451-006- 執 行 期 間 :99年08月01日至 100年07月31日 執 行 單 位 :明道大學材料科學與工程學系 計 畫 主 持 人 :張奇龍 處 理 方 式 : 本計畫可公開查詢 中 華 民 國 100 年 10月 31 日 行政院國家科學委員會補助專題研究計畫 ■ 成果報告 □期中 進度報告 雙極脈衝磁控濺射沉積氮化鉻硼薄膜在光學模造玻璃模仁之應用研究--高溫 之特性研究及實物測試破損分析 計畫類別:■個別型計畫 □整合型計畫 計畫編號: NSC 99 -2221-E-451-006 執行期間: 99 年 08 月 01日至 100 年 07月 31日 執行機構及系所:明道大學材料科學與工程學系 計畫主持人:張奇龍 共同主持人: 計畫參與人員:廖俊嘉、曾麟詠、洪程彥、 王謹明、邱子恆 成果報告類型(依經費核定清單規定繳交 ) :■精簡報告 □完整報告 本計畫除繳交成果報告外,另須繳交以下出國心得報告 : □赴國外出差或研習心得報告 □赴大陸地區出差或研習心得報告 □出席國際學術會議心得報告 □國際合作研究計畫國外研究報告 處理方式 :除列管計畫及 下列情形者外,得立即公開查詢 □涉及專利或其他智慧財產權, □一年□二年後可公開查詢 中 華 民 國 100 年 10 月 25 日 1 PDF 檔案使用pdfFactory 試用版本建立.tw/FinePrint 中文摘要 本計畫結合 CrN的耐高溫穩定 性、高耐腐蝕性、高脫膜 抗沾黏性的 性質,結合 B 原子與BN 的絕緣 特性、良導熱 特質 、高溫 定性、極佳潤滑性與化學 定性等優點,以雙極脈衝 式磁控濺射 法來沉積並獲得 具CrN 與BN 特性之Cr-B-N 奈米複合硬質 薄膜,初步結果已 經達到表面粗糙度 需小於20 nm(Cr-B-N 奈米複層薄膜 3 nm) 、硬度需 大於碳化鎢基材一倍以上 ,約需大於20 GPa (Cr-B-N 奈米複層薄膜硬度介於 25~35 GPa) 、低摩擦係數 ,約需小於0.5或愈低愈好(Cr-B-N 奈米 複層 薄膜介於0.2~0.45) 、高附著 性,約需大於50 N 以上(Cr-B-N 奈米複層薄膜 55 N) 、脫模性( 室 溫下,熔融玻璃液滴接觸角 168 度) ,基於此初步有利結果,本 99 年度計畫 延續提出針對Cr-B-N 奈米複合硬質 薄膜之高溫(400~800℃)性質的研究 ,包括高溫 抗氧化性、高溫相穩定 性、高溫抗沾 黏性、高溫磨潤性、高溫熱循環應 力,並進行實物之測試與破損分析 ,以期望達到在玻璃模

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