天津工业大学磁控溅射沉积系统等设备项目（项目编号：JG2016-264.DOC

天津工业大学磁控溅射沉积系统等设备项目（项目编号）更正公告 受委托，天津市教育委员会教学仪器设备供应中心以方式,对实施政府采购,现对项目部分内容予以变更。 一、原公告主要内容 1.采购项目名称 2.采购项目编号： 3.首次公告日期：6年926日 二、更正事项、内容及日期 1. 更正事项和内容： 设备名称 技术指标 单位 数量 预算金额（万元） 1 磁控溅射沉积系统 一、货物清单： 1. 主体：含真空腔体，真空室门，主机骨架，水冷却系统，控电柜； 2. 真空系统：含机械泵、分子泵和相应真空测量设备； 3. 工件架系统：行星公自转结构，公自转独立控制； 4. 烘烤系统：基片加热台组件两套； 5. 磁控溅射系统：四个磁控靶,均为可调角度磁控靶，可实现共溅射，直流、射频兼容；均为向上溅射成膜；四个靶可分别单独轮流溅射，也可以实现共溅射； 6. 膜厚仪：一套 7. 离子轰击：一套 8. 电源：两套直流电源，一套射频电源，一套直流偏压电源； 9. 充气系统：配置三路供气气路； 10. 循环冷却水路：冷却水路分配器一套；配水压表一只； 11. 电气控制系统：1套 12. 相关备件： （1）相关规格的金属密封铜圈，氟橡胶密封圈： 全套； （2）不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等： 全套。 13. 相关技术资料（包括但不限于以下内容） 2套 （1）设备操作、维护使用说明书； （2）各类外购件使用说明书； （3）设备结构原理图； （4）电控系统原理结构图； 二、技术指标： 1. 主体 1.1 形式：全封闭框架结构，真空室为电机顶盖升降方式，与抽气室整体焊接；主机与电控柜之间安装金属线槽（主要连接电缆、电线、软水管和软气管均放入金属线槽,并有颜色等明确标识标明用途），并从主机与电控柜上方通过。 1.2真空腔体：采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料（304）,内表面作抛光处理，外壁作喷砂处理。箱体内衬不锈钢防污板（侧壁防污板厚度δ=1mm，室内下防污平板厚度δ=1.5mm）两套（其中一套为备用），防污板为可拆卸式，在室体抽气口与工作室之间安装截流挡板，采用超高真空用氟橡胶和刀口金属密封。带一个CF100mm观察窗口，位于真空腔体正前方，采用超高真空用金属与玻璃可发密封。 1.3真空室门：采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料（304），内表面作抛光处理，外壁作喷砂处理。 1.4主机骨架：机台表面用不锈钢蒙皮装饰；四只脚轮，可固定，可移动。 1.5水冷却系统：室体、真空机组、磁控靶等有断水报警锁定安全装置。 1.6控电柜：控电柜内主要电器外购件均选用通过CE认证或ISO9001认证的生产厂商的产品。 2. 真空系统 2.1极限真空度：≤6.67×10－5Pa（空载、经充分烘烤除气并充干燥氮气）； 2.2恢复真空：大气至6.6×10－4 Pa≤40min；(系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)； 2.3真空漏率：停泵关机12小时后溅射室保持真空度≦5Pa； 2.4真空配置： 1) 直联泵一台，抽速15L/s； 2) 分子泵一台，抽速1200L/s； 3)超高真空气动插板阀一套、低真空阀和前级阀各一套；（带电磁到位信号） 4)真空连接采用304材料，各泵之间柔性不锈钢波纹管减震连接； 5)溅射室放气阀一只； 6)分子泵抽气口处设置节流阀一套，控制溅射气氛。 2.5真空测量： 1）两路电阻规，一路电离规；对真空室和真空管道分别精确监控，带数据通讯； 2）电阻规：测量范围：1×105～1×10-1Pa； 3）电离规：测量范围：1×10-1～5×10-6Pa ； 4）电阻规和电离规采用超高真空金属密封方式。 2.6真空操作：有手动和程序自动两种模式。 3. 工件架系统 3.1工件架： 1）行星公自传结构，公自转独立控制； 2）基片尺寸：可放置基片尺寸不小于Φ75mm；同时可以安放5片；其中一片位于工件架正中，用于共溅射, 其余4片圆周分布用于垂直溅射。 3）基片转盘由电机驱动，可计算机控制公转工位及镀膜过程； 4）工件架真空室顶部安装； 5）工件架可以加负偏压-1000V； 3.2工件盘材料: 采用0Cr18Ni9不锈钢材料； 3.3工件架旋转: 转速3～30rpm，交流变频调速，上驱动方式。工件盘轴向、径向跳动小于等于±2.5微米；驱动引入采用磁流体密封。 ★4. 烘烤系统 1）共溅基片加热台组件一套，安装圆心基片位置的背面，最高加热温度800℃，温度控制采用热电偶闭环控制方式，配日本温控仪表，仪表控制精度为800±1℃，控温方式为PID自动控温及显示； 2）垂直向上溅射基片加热台组件一套，最高温度300°C，采用PID闭环控温。 ★5. 磁控溅射系统 1）四个Φ100mm磁控靶，安装于真空室底部，向上溅射成膜； 2）其中三个磁控靶可手动调节角度磁控靶，调节角