应用双埋层斢斚斏工艺制备低值微惯性开关-光学精密工程.PDF

第 卷 第 期 光学精密工程 棽棸 暋 椀 暋 斨旓旍棶棽棸暋斘旓棶椀 暋暋暋暋暋暋暋暋暋斚 旚旈斻旙斸旑斾斝旘斿斻旈旙旈旓旑斉旑旈旑斿斿旘旈旑 暋暋暋 暋暋暋暋 年 月 旔 旂 旂 棽棸棻棽 椀 暋 暋 暋 斖斸棶棽棸棻棽 旟 文章编号 棬 棭 暋棻棸棸棿灢椆棽棿斬棽棸棻棽棸椀灢棻棸椃椂灢棸椄 应用双埋层斢斚斏工艺制备低 值微惯性开关 灣 棳 棳 王 超 吴嘉丽 陈光焱 棬 棳 棭 中国工程物理研究院电子工程研究所 四川绵阳椂棽棻椆棸棸 椇 棬 棭 棳 暍 棬 棭 暍 摘要 采用双埋层 斢斚斏斢旈旍旈斻旓旑灢斚旑灢斏旑旙旛旍斸旚旓旘材料 结合 斔斚斎腐蚀工艺 电感耦合等离子体 斏斆斝刻蚀工艺 阳极键合以 棳 暎 棷 及喷雾式涂胶工艺 研制了一种基于平面矩形螺旋梁的低 值微惯性开关 利用二氧化硅 斔斚斎腐蚀 斏斆斝刻蚀自停止 棳 暎 棳 棳 的特点 平面矩形螺旋梁厚度的精度为暲棸棶棿椂 旐 分析了双埋层斢斚斏材料的电学特性 采用等电位技术 实现了双埋层 毺 暎 棳 斢斚斏与上下两层硼硅玻璃的阳极键合 采用玻璃无掩模湿法腐蚀技术 在玻璃封盖底部设计制作了大小为棽棸棸 旐暳棽棸棸 毺 棳 暎 棳 毺旐的防粘连凸台 解决了芯片在清洗干燥过程中的粘连问题 采用 斏斆斝刻蚀用硅衬片方法 解决了 斏斆斝刻蚀工艺中高 暎 棳 棳 棳 温导致的金硅共晶合金问题 实验验证显示 提出的方法效果较好 芯片成品率得到较大提高 为大批量地研制低 值 微惯性开关提供了可靠的工艺基础暎 椇 椈 椈 椈 椈 关 键 词 低 值微惯性开关 双埋层斢斚斏等电位 防粘连 硅衬片 暋 暋 中图分类号椇 椈 文献标识码椇 椇 棷 斣斖椀椂棿斣斘棾棸椀暋暋 斄暋暋斾旓旈棻棸棶棾椃椄椄斚斝斉棶棽棸棻棽棽棸棸椀棶棻棸椃椂 斖斸旑旛旀斸斻旚旛旘斿旓旀旍旓旝灢 旐旈斻旘旓旈旑斿旘旚旈斸旍旙旝旈旚斻旇旛旚旈旍旈旡旈旑旂 斢斚斏旝旈旚旇斾旓旛斺旍斿斺旛旘旈斿斾旍斸斿旘旙 旟 灣 斪斄斘斍斆旇斸旓 棳 棳