我国互联网市场不正当竞争规制制度的创新-中南林业科技大学学报.PDF

谈谈光成像抗蚀抗电镀油墨的应用和选择谈谈光成像抗蚀抗电镀油墨的应用和选择 谈谈光成像抗蚀抗电镀油墨的应用和选择谈谈光成像抗蚀抗电镀油墨的应用和选择 光成像抗蚀抗电镀油墨 （以下简称湿膜）是上世纪九十年代初出现的用于电路板制造的新型抗蚀抗电 镀掩膜材料。当时原电子部的技术领导和部门作为一种新工艺在行业内推广，而且还组织专业人员赴首先 使用的厂家桂林无线电五厂进行参观和组织专业学习。十几年过去了，湿膜以它优良的抗蚀抗电镀性能、 高分辨率和多种涂布形式 （辊涂、帘涂、网印、喷涂等）以及设备的通用和廉价等著名的有点，在电路板 行业得到广泛的应用。湿膜的普及应用表明了图形转移工艺的发展，进入了一个新的里程，为细线的制造 提供了理想的掩膜材料，推动了集成电路合微电子技术的发展是电路材料发展的重大成就。近几年来由油 墨商的热情服务和大力推广，在标牌、面板、装饰画的制造中也都使用湿膜，收到了很大的效果。到目前 为止，印刷、建材和有关领域也正在使用，其发展的速度是惊人的。 11、、湿膜的耐蚀性和用于多种掩膜湿膜的耐蚀性和用于多种掩膜 11、、湿膜的耐蚀性和用于多种掩膜湿膜的耐蚀性和用于多种掩膜 1.1 耐多种酸性蚀刻液 湿膜的突出一点就是耐多种酸性蚀刻液：酸性氯化铜蚀液、三氯化铁蚀刻液、硝酸系列蚀刻液、硫酸 双氧水蚀刻液。这些蚀刻液除用于电路板的蚀刻液外，有的还用于钢铁、不锈钢、铝标牌、面板的蚀刻。 1.1.1 耐碱性蚀刻液 在双面板及多层板的外层蚀刻时均以镀层做为抗蚀层，而蚀刻液为碱性氯化铜蚀刻液。在多层板的内 层生产中，多以湿膜做掩膜制造图型。因铜层较厚，而湿膜在一定条件下完全能耐碱性氯化铜蚀刻液蚀刻， 样不仅节省了一台设备 （酸性蚀刻机），减少了生产面积，省去了辅助设备 （再生装置）和蚀刻液的调整 与维护，也减少了污染。 1.2 用于标牌面板的掩膜 近几年来湿膜又普遍用于标牌、面板、金属画、滤网、栅网、集成电路框架的掩膜。过去制造这些产 品的掩膜都是以重铬酸盐为感光剂的骨胶和聚乙烯醇。根据感光理论：感光的部分产生交联变为三价铬， 成为所需的图型留在板面上；而未感光的部分显影后被水冲走的都是六价铬。现在用湿膜代替不仅缩短了 生产周期，避免了六价铬的排放，为环保立了大功，也消除了对操作工人的毒害。今年四月在江阴召开的 全国标牌技术座谈会上，到会的厂长及各位代表对此呼声很高。一家湿膜制造商在会上发放了约 30 户样品， 销售火爆。看来结束以重铬酸盐以感剂的时刻已经为期不远了。 1.3 用于模具制造的掩膜 湿膜有良好的耐蚀性并非表现在电路板的直接蚀刻，因为一般的敷铜厚度在 18um、35um 或者更薄。最 突出的还是用于压辊模具制造的掩膜 （压辊模具用于皮革、织物、塑料和纸张的压花等）蚀刻深度在0.2～ 0.4mm，用硝酸蚀刻的设备 （材质以45＃钢、工具钢较多）。蚀刻方式均按压辊自转浸入法，时间约 5～1 0 分钟，用于大规模集成电路框架的蚀刻大都用于三氯化铁温度 40～45℃，时间 4～6 分钟不等 （材料：铁 镍合金，厚 0.4～0.2mm）双面蚀刻。 1.4 用于电蚀刻的掩膜 在标牌、面板的蚀刻中，废液的处理和排放是个大问题，在无条件回首和处理废蚀刻液的小城市更为 突出。近几年来风靡全行业的电蚀刻 （也称电解蚀刻）工艺解决了这一难题。花上几千元就可以购买一台 设备，这是因为电蚀刻液为无污染的蚀刻液，因此也就无需解决蚀刻液的处理和排放。但是用于电蚀刻的 掩膜，是用自动刻字机预先刻出不干胶图型，然后再转贴到被蚀刻的表面进行电蚀刻，这样就限制了成批 生产 （成批成本太高）而细小的字及较精细复杂的图案无法加工，改使用湿膜后，无论是单件还是大批量， 无论图案复杂精细与否。均能操作自如。另外，湿膜用于阳纹图案 （即图型凸出）的大面积蚀刻的标牌面 板更能显示出它的优良性能：底面平整，侧蚀较小。 22、、较高的分辨率较高的分辨率 22、、较高的分辨率较高的分辨率 突出的另一优点是有较高的分辨率，从而为电路板加工细线，和精美金属画创造了条件。从经济价值 上没有那一种掩膜能和它相比。用单面板的直接蚀刻 （包括多层板的内层）时能轻松地做出2mil 的线宽和 线间。这些数据是在现实的生产中获得而不是试验和样品。 近几年在我所能接触的产品中栅网的制造世最突出的一例：材料为不锈钢或铁镍合金，厚度为 0.02～ 0.05mm