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沉积偏压对脉冲激光沉积CNx薄膜结构和性能的影响-IngentaConnect
第41 卷第9 期 董 泽等：固化温度对Al O –SiO –MTMS 复合涂层结构和性能的影响 · 1265 ·
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第41 卷第9 期 硅 酸 盐 学 报 Vol. 41 ，No. 9
2 0 1 3 年 9 月 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY September，2013
DOI ：10.7521/j.issn.0454–5648.2013.09.16
沉积偏压对脉冲激光沉积CNx 薄膜结构和性能的影响
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杨芳儿 ，陈占领 ，郑晓华 ，宋建强 ，沈 涛 ，董朝晖
(1. 浙江工业大学机械工程学院，杭州 310014 ；2. 浙江省冶金研究院有限公司，杭州 310015)
摘 要：采用脉冲激光沉积(PLD)法在不同直流负偏压下烧蚀石墨靶材，在单晶Si 片上沉积CN 薄膜。利用X 射线光电子能谱(XPS)、Raman 光谱和
x
扫描电子显微镜对薄膜的化学成分、价键状态、表面形貌进行了表征，并借助于涂层附着力自动划痕仪和纳米压痕仪分别测试了膜–基结合力及薄膜
硬度。结果表明：偏压辅助PLD 技术显著提高了薄膜的氮含量，膜–基结合力和沉积速率分别随着负偏压值单调增加和减少。结合XPS 和Raman 分
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析得出：当偏压V = –40 V 时，价键摩尔含量x(sp )和x(sp ) — 达到最大值及D 峰与G 峰强度比I /I 达到最小值(2.2) 。薄膜中sp 杂化键比例的提升
b C N D G
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有助于CN 薄膜构建类金刚石结构和网状结构且薄膜硬度与x(sp )和x(sp ) — 值的变化呈现出了正比例关系。
x C N
关键词：氮化碳薄膜；脉冲激光沉积；组织结构；机械性能；偏压
中图分类号：O484 文献标志码：A 文章编号：0454–5648(2013)09–1265–06
网络出版时间：2013–08–29 11:49:04 网络出版地址：/kcms/detail/11.2310.TQ1149.016.html
Effects of Deposition Bias Volt
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