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热处理气氛对TiO2纳米管阵列薄膜光电催化性能的影响-催化学报
2010 Chinese Journal of Catalysis Vol. 31 No. 10
文章编号: 0253-9837(2010)10-1300-05 DOI : 10.3724/SP.J.1088.2010.00418 研究论文: 1300~1304
热处理气氛对 TiO 纳米管阵列薄膜光电催化性能的影响
2
1 2 1 2 2 1
张 溪 , 凌云汉 , 廖 雷 , 牛致远 , 陈诗蕾 , 赵成根
1桂林理工大学环境科学与工程学院, 广西桂林 541004
2 清华大学材料科学与工程系, 北京 100084
摘要：采用原位阳极氧化法在 Ti 基底上制备了高度有序的 TiO o
纳米管阵列薄膜, 分别在 O , 空气, Ar 和 H 气氛中于 500 C 进行
2 2 2
结晶热处理, 考察了热处理气氛对 TiO2 纳米管阵列薄膜光电催化降解亚甲基蓝 (MB) 反应性能的影响. 结果表明, 在这些气氛中
热处理得到的锐钛矿晶型的纳米管阵列薄膜对 MB 降解满足一级反应, 其速率常数分别为 4.967, 3.127, 1.989 和 1.625 h−1 (0.5 V).
电化学阻抗分析表明, TiO2 纳米管的光电催化性能受控于光生电荷的传递特性. 在 O2 中热处理, TiO2 纳米管的光吸收及激发
性能得以改善, 且电荷传递阻抗降低, 因而其光电催化性能最好.
关键词：二氧化钛; 纳米管阵列; 阳极氧化; 光电催化; 亚甲基蓝; 热处理
中图分类号：O643 文献标识码：A
Effect of Heat Treatment on the Photoelectrocatalytic Performance
of TiO2 Nanotube Array Film
1 2,* 1 2 2 1
ZHANG Xi , LING Yunhan , LIAO Lei
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