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现代MOCVD技术的发展与展望-华南师范大学学报
()
Journal of South China Normal University (Natural Science) 1999(3) :99~ 107
1000- 5463( 1999)03- 0099- 09
MOCVD
12) 1) 1) 1) 1) 1)
文尚胜 廖常俊 范广涵 刘颂豪 邓云龙 张国东
1) 510631; 2) 510641
MOCVD MOCVD
MOCVD MOCVD
MOCVD ;;;
TN304;TN209 A
1 MOCVD
MOCVD(Metal organic che ical vapor Deposition) , 1968
Manasevit[ 1,2]
,
, - , -
:
H
2
R - M + R - M M - M + R - R .
1 1 2 2 1 2 1 2
650~ 750
M1= A M1= B M1= A R1= CH3C2H5
M = M = M = R = HCH C H
2 A 2 A 2 A 2 3 2 5
MOCVD,
(1) :,
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(2) , MOCVD
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MOCVD ,
: 1999- 01- 20
( 3) (),
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(5)MOCVD
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2 MOCVD
MOCVD
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21
MOCVD ,,
MOCVD MO ,:( 1) ;(2);(3)
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1
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(CH ) Al
3 3 TMAl 15 10. 3478 2134. 83
(C H ) Al
A1 2 5 3 TEAl - 58 11. 1229- 2361.2/ (T- 73.82)
(CH ) AlN( CH )
3 3 3 3 TMAl- TMN ( 59.85 pa/20 )
(CH ) AlH DMAlH 11.044 2575
3 2
AlH (CH ) TMAA 76 ( 266.6 pa/25 )
3 3 3
(CH ) Ga TMGa - 15.8 10. 1938 1703
3 3
( CH ) Ga
Ga 2 5 3 TEGa - 82.5 10.3479 2222
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