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磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系-发光学报
24 3 Vol1 24 No . 3
2003 6 CHINESE JOURNAL OF LU MINESCENCE Jun. , 200 3
: 1000- 032(2003) 03-0305-04
磁控溅射CNx 薄膜的附着力粗糙度与衬底偏压的关系
1, 2 1 1 1 1 1* 2
李俊杰 , 王 欣 , 卞海蛟 , 郑伟涛, 吕宪义 , 金曾孙 , 孙 龙
( 11 ; , 130023; 21 , 133002)
: Si( 001) CN
x
CN N , ( T ) 350 e , ( V ) 0~ - 150V
x 2 s b
(AFM) CN AFM
x
V CN , - 100V
b x
CN ( ) , Si( 001) Si
x
( 001) CN
x
: CN ; ; ;
x
: O48415 : A
CN
1 引 言 x
CNx
2 实 验
[ 1~ 3] CNx CNx
[4~ 6] , 5@ 10- 4Pa,
, CN ,
x
, CVD Si ( 001) ,
, ( 99199%) 80mmSi
,
CNx , 10min,
, , Si ,
Si SiO , Si SiF
, 2 4
, CNx , ,
[ , 8] ,
, CNx
500 e , 10min SiF4, Si
CN , , , 350 e
x
,
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