专题周记4 - 专题周记系统.PDF

專題週記4 班級：電機三丙 姓名：莊延豪、陳冠宏、蔡博宇 學號：D0143739 、D0143679 、D0182864 光纖光柵製造 ※內部寫入(Internal writing) 原理:入社雷射光與光纖末端反射光干涉 → 弱駐波 → 折射率變動 缺點: 1. 折射率變動小 2. 反射率低 3. 限可見光波長被反射 4. 性質在使用時會變動 ※外部寫入(External) 1. 干涉法: 利用由外部射入二光束間的干涉造成折射率變動 缺點: 1. 光源限空間同調性低的ArF(193nm)準分子雷射 2. 對震動敏感 → 光柵消失 ※相位光罩法(Phase mask) 1. 原理:利用相位光罩(由電子束蝕刻/反應離子蝕刻石 英而製成) 的光繞射造朝折射率改變 2. 優點: (1) Λ精度高(pm) (2) 無需另加光學系統 (3) 光罩長度可達 125mm→長光纖光柵 (4) 可使折射率具各式非均勻的變化 (5) 適合光纖光柵的量產 3. 缺點: 不同的波長要用不同的光罩 ※非干涉法 1. 原理:UV 光源照射振福光罩，在纖核的成像會使折 射率改變 2. 優點:適合製作長周期透射式光柵(Λ=100~300um) 3. 缺點:對反射式光柵而言 Λ=1um λ=可見光~IR 專題心得 經過講義上面的資料閱讀中，熟識光鮮的各種形態 以及光纖光柵的製作方法，但覺得公式與數據方面 難以了解其原理 ，在吸收過程難免有些疑惑，而實 作依然在重複練習熔接光纖，但也發現其實還並不 是那麼熟練與順利，希望在往後，甚至暑假時，要 是有新的知識與實作，老師能多方講解，也感謝老 師與助教的用心。