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材料分析测试方法 屈树新 西南交通大学 材料先进技术教育部重点实验室 材料科学与工程学院 分析测试中心 元素分析 化学分析: 化学滴定、电化学…… 紫外-可见分光光度计(UV-S)、原子吸收(AAS)、等离子体发射光谱(ICP) ESCA:Electron Spectroscopy for Chemical Analysis 化学分析用电子能谱 EDS: Energy Dispersive Spectra(特征X-射线能谱分析) XPS: X光电子能谱 AES:俄歇电子能谱 SIMS:次级离子质谱分析 …… 物质的结构分析 测定物质结构的本质 电子与物质的相互作用 感应电动势 电子束照射试样,试样中电子电离和电荷积累; 荧光(阴极发光) 入射电子与试样作用时,电子被电离,电子发生跃迁,并发出可见光,可用作光谱分析; 特征X射线 (EDS) 入射电子与试样作用,产生特征X射线; 二次电子(SEM) 试样表面物质被电离,被激发的电子离开试样表面形成二次电子,能量较低,试样表面凹凸的各个部分成像; 电子与物质的相互作用 背散射电子(BSEM) 产生弹性或非弹性闪射后离开试样表面的电子,电子的能量较高,背散射电子的强度与试样表面形貌和组成元素有关; 俄歇电子 吸收电子 透射电子(TEM) 当试样很薄时,入射电子与试样作用引起弹性或非弹性散射透过试样的电子; 电子与物质的作用 电子与物质的作用 以X射线形式释放称为荧光X射线; 以激发次外层的电子发射,称为俄歇发射。 俄歇效应和荧光效应是互补的,俄歇产率与荧光产率之和为1。 对于轻元素,其俄歇效应的几率较大,对于重元素X射线荧光发射的几率较大 特征X-射线能谱分析 原理 聚焦很细的电子束轰击试样表面,将表面原子内层电子激发,留下一个空位, 一个原子趋于最低能量状态, 外层电子跃迁至内层,并释放一定的能量, ΔE=hc/ λ 产生波长为λ的X射线; λ决定于ΔE——特征X射线 特征X-射线能谱分析 仪器装置 电子光学系统(电子枪和聚焦透镜) 样品室(超高真空) 电子图像系统(扫描图像) 检测系统(X射线能量分析) 数据记录和分析系统 特征X-射线能谱分析 特征X-射线能谱分析 早期 11Na -92U 现在 4Be 特征X-射线能谱分析 材料微区化学成份分析的重要手段 利用样品受电子束轰击时发出的X射线的波长和强度,来分析微区(1-30μm3)中的化学组成 样品的无损性 多元素同时检测性 可以进行选区分析 电子探针分析对轻元素很不利 特征X-射线能谱分析 样品仅限于固体材料 不应该放出气体 ,能保证真空度 需要样品有良好的接地 可以蒸镀Al和碳,厚度在20~40nm 作为导电层 特征X-射线能谱分析 定性分析 理论依据Bragg定律 计算机自动标识 人工标识主要针对干扰线 谱线干扰,化学环境影响等 布拉格方程的应用 已知波长的X射线,测量未知的晶体的面间距,进而算出其晶胞参数 结构分析(XRD) 已知面间距的晶体来反射从样品发射出来的X射线,求得X射线的波长,确定试样的组成元素 X射线能量色散谱仪(EDS, EDAX) 特征X射线能谱仪 特征X-射线能谱分析 对试样的要求 定性分析 定量分析 清洁表面 平整 表面凹凸将影响谱仪的聚焦条件,导致所产生的X射线强度减弱; 带来一些虚假的X射线强度,凸起处受到背反射电子或X射线的激发而产生附加的X射线; 特征X-射线能谱分析 特征X射线能谱仪的应用 扫描电镜或透射电镜的一个附件 试样的元素分析 点分析 线分析 面分析 特征X-射线能谱分析——点分析 透射电镜形貌观察及微区成分分析 特征X-射线能谱分析 点分析 测定样品上某个点的化学成分 特征X-射线能谱分析——线分析 线分析 测定某种元素沿给定直线分布的情况 将电子束沿指定的方向作直线扫描 特征X-射线能谱分析——面分析 面分析 测定某种元素的面分布情况 将电子束在样品表面作扫描 XPS ?? 引言 X射线光电子谱是重要的表面分析技术之一 能探测表面的化学组成, 可确定各元素的化学状态 化学分析电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis),简称为“ESCA” 随着科学技术的发展,XPS也在不断地完善。目前,已开发出的小面积X射线光电子能谱,大大提高了XPS的空间分辨能力。 XPS ??光电效应 光电效应 XPS ??光电效应 光电效应 根据Einstein的能量关系式有: h? = EB + EK 其中? 为光子的频率,E
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