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人工裁剪制备石墨纳米结构-物理学报-中国科学院物理研究所
第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报
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人工裁剪制备石墨纳米结构
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刘首鹏 周 锋 金爱子 杨海方 马拥军 李 辉 顾长志
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吕 力 姜 博 郑泉水 王 胜 彭练矛
!）（中国科学院物理研究所，北京 !%%%% ）
# ）（清华大学力学工程系，北京 !%%%’ ）
$ ）（北京大学电子学系，北京 !%%(!）
（ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿）
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采用不同的方法裁剪高定向热解石墨（ ），制备纳米尺寸的石墨条 首先，发现用聚焦离子束（镓离子）刻
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蚀高定向热解石墨，可以得到边缘整齐程度在几十纳米的石墨条，另外，用电子束曝光和反应离子刻蚀的工艺，可
以得到最小尺寸为 的纳米石墨图型 （ ，纳米尺寸的多层石墨结构）采用了三种不同
)% /0 /1/2345678 9:1;5=7 ;1==7:/ .
的方案制备反应等离子刻蚀过程中需要的掩膜，分别是,?@A 生长的B5+ 掩膜，磁控溅射的方法生长的B5+ 掩膜
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和,CCD 光刻胶掩膜，并将三种方案的刻蚀结果做了对比.
关键词：高定向热解石墨，聚焦离子束刻蚀，电子束曝光，反应离子刻蚀
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蚀（ ）的方法成功制备得到了微米尺度的石墨图
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引 言
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