兆位元超解析近场光碟之制备与特性研究.PDF

行政院國家科學委員會專題研究計畫成果報告 兆位元超解析近場光碟之製備與特性研究 Fabrication and Characterization of Tera-Byte Super-Resolution Near-Field Structure Disk 計畫編號：NSC94-2216-E005-008 執行期限：94年8月1日至95年7月31日 主持人：何永鈞 中興大學材料工程學系 一、 中文摘要 would diffuse outward and form a permanent aperture. During the readout, the permanence 研究發現，ZnS-SiO /NiO /ZnS-SiO 多 aperture can effectively reduce the laser spot 2 x 2 層膜加熱至 300~350℃時，NiOx 會熱分解 size, leading to the super resolution effect. As 形成Ni 及 O 。高氧流量比(O /(Ar+O ))製 the distance between NiOx mask layer and 2 2 2 recording layer is much smaller than the 備的 ZnS-SiO /NiO /ZnS-SiO 多層膜經熱 2 x 2 wavelength of readout laser, the near-field 退火產生熱分解後穿透率有明顯的上升， coupling effect is also expected to occur. The 可應用於超解析近場光碟做為遮罩層。寫 combination effects of super-resolution and 入時，在高功率雷射脈衝照射下，NiOx 遮 near-field coupling can successfully retrieve 罩層受熱分解為金屬Ni 與O，熱分解產生 the recording marks beyond the diffraction 2 的金屬Ni 原子會向四周擴散聚集，形成一 limit. 永久性開口。讀取時，低功率雷射通過此 Keywords：NiO , mask layer, thermal x 一永久性開口其光點