其他成像对比简介.PDF

其他成像對比簡介 2 厚度條紋 2 sin (πts) I g φg 2 (sξ) 圖 5.5矽晶中 (a)s較小 ,(b)s較大時厚度條紋像 彎曲軌跡 彎曲軌跡 兩電子束成像 矽晶中 (a)兩電子束晶格條紋,(b) 多電 子束晶格像 (多電子束成像) 穿越試片之疊差引致上下晶體之相對運動 圖 5.13矽晶中之疊差 g · R =整數 或 與整數之差在0.02以 內，則看不到疊差 圖 5.14矽晶中之疊差 ,(a)g=[202]時 條紋可見, .(b)g=[220]時 條紋, 仍可見 . (c)g=[022]時 條紋不可見, .(d)g=[113]時 條紋消失, ,知 R=1/6[112] Moire條紋 圖 5.15 Moire圖形之形成， (a)平行Moire圖形 (b)旋轉Moire圖形。 圖 5.16 ReSi /Si之Moire條紋 ,d =1.92Å, d =1.97Å, n=2.5 2 1 2 圖 5.17 與表面平行而位於表面下y處之螺旋型差排,在完整晶 體中圓柱 CD變形為EF形狀. x,y, ψ皆可由圖中見其定義 矽晶中接近純螺旋型差排網路。 (a) g=[022], (b) g=[311], 差 排A 之Burgers向量為 1/2[011] 。 離子佈植矽中部分差排環及其中疊差影像 samples dummy pieces supporting pieces 2mm x 5mm 3mm x 10mm 10mm x 10mm mechanical milling glass mount onto Cu ring and ion milling mechanical milling The End