成功大学微奈米科技研究中心奈米微影整合制程研习班.PDF

成功大學微奈米科技研究中心 奈米微影整合製程研習班 【課程概要】： 元件製造是一種將光學、電學、材料學、物理學…等理念實現的過程，不管是新創的概念或是 承襲文獻的製程，往往遭遇許多製程上的困難，尤其面對多步驟的製程，製程與製程間的搭配與參 數千變萬化 ，在這迷宮之中如何採用正確的方法與方向就顯得格外的重要，因為製程是一門講求訣 竅(know-how)的學問，除了基礎知識之外 ，更需要經驗的累積 ，才能走出這一重重的困境；本中 心的製程工程師團隊具有多年之元件製造經驗，開發各種製程間之整合，將各製程設備進行點、線、 面的串聯，進行各式之元件製造。 本課程將以鰭式奈米結構(Fin structured Nano fabrication)為例，示範教授混搭 (Mix-and-Match)製程，整合多種製程技術，首先以傳統光學曝光，結合電子束蒸鍍製作電路晶片， 再搭配電子束微影製程與電漿蝕刻製程，將鰭式奈米結構與電路相連接，課程將演繹奈米尺度對準、 微影與蝕刻，同時也包含檢測與製程結果分析 。 【主辦單位】：國立成功大學微奈米科技研究中心 【招收對象/ 人數】：研究生、工程師、專題生/20 人 【上課日期】：2016 年 1 月 25 ~ 26 日，星期一～二 1 月 25 日，星期一 時 間 上課內容 上課地點 授課人 先進奈米微影製程 成大（南）自強校區 9:00-12:00 鍾崇仁博士 The State-of-the-Art Nano Lithography 科技大樓4F 電路晶片(Chip)與 成大（北）自強校區 涂琇真工程師 、 13:30-16:30 對準標記(Alignment Mark)製作 儀器設備大樓 B1 甯超群工程師 (UV 曝光與電子束蒸鍍) 1 月 26 日，星期二 奈米尺度對準 、微影與蝕刻 成大（北）自強校區 楊穎枚工程師 、 9:00-12:00 (電子束微影與電漿蝕刻) 儀器設備大樓 B1 黃秋華工程師 13:30-16:30 檢測與製程結果分析 成大（北）自強校區 楊穎枚工程師 (表面粗度儀 、電子束微影) 儀器設備大樓 B1 陳子欣工程師 16:30-17:30 討論與建議 蔡姿婷工程師 歡迎踴躍報名！  報名網址：.tw/  報名截止日期：2016 年 1 月 20 日，星期三  學費/繳費方式：每人 3,000 元，如同一單位 2 人報名費用9 折(5,400 元) ，3 人報名費用 8 折 (7,200 元) ，報到時現場繳費 。  注意事項： 1. 本課程研修完畢將發予證書。 2. 人數不足 8 人停開。 3. 若遇天候因素，如颱風，且行政院人事行政總處公告停班停課者，則當次課程取消。  聯絡方式：林丹琪 專員 電話：06-2757575 轉 31380 轉202 傳真：06-2080103 Email: walin@.tw