成功大学微奈米科技研究中心奈米微影暨电浆蚀刻原理课程.PDF

成功大學微奈米科技研究中心 奈米微影暨電漿蝕刻原理課程 TSMC 已經開始布局3/5 奈米製程能力，這需要投入龐大的資本，全世界僅有少數廠商 有此條件競逐莫爾定律，我們不用真的把腳伸進池中，就可以想見這水有多冷。 對於多數的產業界或學術界研究，應當走另一條路－創新元件設計與功能性材料的開發， 利用新構型設計與新材料特性來開發具有新功能的元件，由於尚未導入量產，故無法獲得專 業代工廠的支援，亦即 ，在 （次微米-奈米尺度）prototype 元件製造時就會面臨到許多製程 的關卡，成功大學微奈米科技研究中心在此製程領域已投入數年研發，本中心的製程團隊具 有多年元件製造經驗，建立各種製程間之整合，將各製程設備進行點、線、面的串聯，並進 行各式之元件製造。 【課程概要】： 本課程將詳細教學奈米微影製程中必須的電子束微影技術與電漿蝕刻技術 ，同時將介紹製程中 相對應所需的檢測方法 （SEM 、橢圓偏光儀、a-step 、AFM…等 ），讓有意研發新功能元件的產業 界與學術界人員能順利導入次微米-奈米尺度的製程領域 。 電子束微影具有不需光罩的靈活設計特性，搭配多種氣體（SF 、C F 、CHF 、Cl 、BCL 、SiCL 、 6 4 8 3 2 3 4 Ar 、O2 ）的電漿蝕刻可對於矽基材料、金屬材料、III-V 半導體材料、新興二維材料等進行圖案化 （patterning ），從CAD 設計到 prototype 元件驗證，僅需一兩天的時間，大幅減少光罩輸出的時 間與成本 ，而多元化的電漿更可以讓元件設計更具豐富與彈性。 【主辦單位】：國立成功大學微奈米科技研究中心 【招收對象/ 人數】：產業研發人員、研究生、工程師、專題生/20 人 【上課日期】：2017 年 1 月 19 日，星期四 時間 上課內容 上課地點 授課人 成大（南）自強校區 9:00-12:00 電子束微影製程原理與應用 鍾崇仁博士 科技大樓4F 成大（南）自強校區 13:00-15:00 多元電漿蝕刻製程 鍾崇仁博士 科技大樓4F Break 成大（北）自強校區 楊穎枚工程師 15:30-16:30 奈米微影與電漿蝕刻示範 儀器設備大樓 B1 黃秋華工程師 成大（北）自強校區 陳子欣工程師 16:30-17:00 製程整合簡介與綜合座談 儀器設備大樓 B1 鍾崇仁博士 歡迎踴躍報名！  報名網址：.tw/  報名截止日期：2017 年 1 月 16 日，星期一  學費/繳費方式：每人 3,000 元 （學 ）/4,000 元 （業），如同一單位2 人報名費用 9 折 （5,400 元 /7,200 元 ），3 人報名費用 8 折 （7,200 元/9,600 元 ），報到時現場繳費 。  修滿本課程之學員若未來報名本中心電子束微影與ICP 蝕刻訓練課程，學費可享 95 折優惠（一次 為限）。  注意事項： 1. 本課程研修完畢將發予證書。 2. 人數不足 8 人停開。