双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置.PDFVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号CN 104730085 A (10)申请公布号 (43)申请公布日2015.06.24 (43)申请公布日 (21)申请号 201310706251.7 G02B 27/44 (2006.01) (22)申请日 2013.12.19 (71)申请人 南京理工大学 地址 210094 江苏省南京市玄武区孝陵卫 200 号 (72)发明人 高志山 窦健泰 王若言 宋华清 杨忠明 王帅 成金龙 王凯亮 王伟 叶井飞 袁群 (74)专利代理机构 南京理工大学专利中心 32203 代理人 朱显国 (51)Int.Cl. G01N 21/95 (2006.01) G01B 11/30 (2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 (54)发明名称 双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装 置 (57)摘要 本发明公开了一种双焦波带片干涉显微检测 平面掩膜缺陷的装置，共光轴依次布置光源、孔径 光阑、正透镜、半透半反分光镜、双焦波带片、待测 平面掩膜，光线经孔径光阑形成点光源，再经正透 镜形成平行光，平行光穿过半透半反分光镜，入射 到双焦波带片上，0 级衍射光束满足折射原理，+1 级衍射光线在双焦波带片相位函数的调控下实现 汇聚，携带待测平面掩膜表面面型相位信息的光 反射形成返回光路。本发明中采用参考光与测试 光共光路的双焦波带片显微干涉系统，双焦波带 片实现了无焦和有焦距共存的衍射器件，相比于 多片的透射透镜组系统，减少了透镜组透射的数 量，而且双焦波带片干涉显微系统实现了振幅型 A 缺陷和位相型缺陷的同步检测的功能。 5 8 0 0 3 7 4 0 1 N C CN 104730085 A 权 利 要 求 书 1/1 页 1. 一种双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，用于检测平面掩膜缺陷，其 特征在于：包括激光光源（1）、孔径光阑（2 ）、正透镜（3 ）、半透半反分光镜（4 ）、双焦波带片 （5 ）、待测平面掩膜（6 ）、CCD 探测器（7）；共光轴依次布置激光光源（1）、孔径光阑（2 ）、正透 镜（3 ）、半透半反分光镜（4 ）、双焦波带片（5 ）、待测平面掩膜（6 ），孔径光阑（2 ）位于正透镜 （3 ）的焦点上，激光源（1）发出激光，入射至孔径光阑（2 ），经孔径光阑（2 ）形成点光源，再经 正透镜（3 ）形成平行光，平行光穿过半透半反分光镜（4 ），入射到双焦波带片(5)，双焦波带 片 (5) 的0 级衍射光束满足折射原理，+1 级衍射光线在双焦波带片（5 ）相位函数的调控下 实现汇聚在待测平面掩膜（6 ），携带待测平面掩膜（6 ）表面面型相位信息的光反射形成返 回光路，再次经过双焦波带片（5 ），入射到半透半反分光镜（4 ），经半透半反分光镜（4 ）反射 到CCD 探测器（7）形成干涉图像。 2. 根据权利要求1 所述的双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，其特征在 于：双焦波带片（5 ）为透光材料，在其顶面设有若干条相互平行的凹槽。 3. 根据权利要求2 所述的双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，其特征在 于：上述透光材料为熔融石英。 4. 根据权利要求1 或2 所述的双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，其特征 在于：上述双焦波带片（5 ）带有凹槽的面，与待测平面掩膜（6 ）相对。 5. 根据权利要求