有效控制AMC的化学过滤方案.pdf

支撑技术 有效控制AMC的化学过滤方案 白晓清，王小兵 （康斐尔过滤设备有限公司，上海 200336） 摘要：AMC对微电子制程存在潜在严重危害并会导致成品率降低。将传统检测方法和Gigacheck或 Gigamonitor相结合，会得到更多的AMC信息。化学过滤器是去除AMC的有效手段，评价化学过滤器的 指标不仅要考察吸附效率、吸附容量等指标，还必须对化学过滤器整体进行测试，从而能够提供对特定的 AMC有很强针对性和突出去除效果的化学过滤解决方案。 关键词：化学过滤方案；AMC控制；吸附效率；吸附容量；化学过滤器实验台；Gigacheck； Gigamonitor 中图分类号： TN305.94文献标识码：B 文章编号： BAI Xiao-qing WANG Xiao-bing (Camfil Farr Filtration Co.,Ltd，Shanghai200336China) Abstract: GigacheckandGigamonitor. Chemical chemical filter on a Chemical Filter Test Rig. Key words: Chemical Filter Test Rig; Gigacheck；Gigamonitor 面，与表面质量有关的污染问题SMC也变得越来 1 前言 越受到人们的重视[3] 。因此，在微电子制程中，对 在微电子制造过程中，HEPA和ULPA过滤器 AMC或SMC进行恰当的检测分析和有效控制就显 是保证集成半导体器件、磁盘驱动器以及液晶显示 得尤为重要。 行业等制程洁净环境的关键措施之一。然而，尽管 对微电子制造业来说，空气中危害生产工艺和 HEPA和ULPA过滤技术对于消除临界尺寸0.01m以 产品并因此引起成品率降低的化学物质，称为“分 上的灰尘粒子非常有效，但对于尺寸比灰尘小得多 子级污染物”（或气载分子污染物），简称 [1] 的分子污染物AMC却显得无能为力 。现代微电子 “AMC”。SEMI将AMC定义为四大类：分子酸 的生产正朝着小型化和大型化不同方向发展：集成 （M A）、分子碱 （M B）、可凝性有机污染物 电路和驱动磁盘日益缩小；液晶显示器TFT或LCD （MC或Organics）以及掺杂剂 （MD）。 变得更大。随着这种制造趋势的发展，AMC对于 当MA浓度达到几个ppb时，就可能引起铝膜 [2] 制程的潜在危害越来越受到人们的关注 。另一方 和铜膜腐蚀；在产品和工艺设备表面凝结，导致电 52 半导体技术第30卷第12期 2005年12月 支撑技术 子元件腐蚀；在芯片中发生金属触点腐蚀等。 原材料和结构设计，尽可能地增强气体分子和吸附 由于MB会和MA发生化合作用形成盐类，对 剂之间的对流、扩散和传质，并最大化地利用吸附 铝和铜有腐蚀作用；还可能在芯片、磁盘以及显示 材料。 器上产生一些薄雾状物质。另外，深紫外 （DUV）